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| 仕事内容 | ■工場の各組織と密接に連携を取りながら、会社全体の様々な制度の企画・運営・改善に取り組む業務です。 ■海外HRとの連携、他部門の海外活動の支援等、グローバルな業務もご担当いただきます。 ※入社後はまず、朝霞・滋賀工場の人員体制の組織開発及び採用業務を行っていただきます 【業務分野】 ※ご経験や適性に合わせて担当業務をアサインします。 ■タレントマネジメント（社内人事制度の運営と改定） ■パフ |
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| 応募資格 | 【必須要件】 下記、いずれかのご経験 ■タレントマネジメント（社内人事制度の運営と改定） ■パフォーマンスマネジメント ■組織開発・人財開発・研修企画 ■採用 ■労務管理 【歓迎要件】 ・事業会社におけるHRBP経験 ・英語でのコミュニケーション能力 |
| 給与 | 年収 550万円～750万円 |
| 勤務地 | 埼玉県新座市野火止7-21-33 |
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| 仕事内容 | ■次世代テクノロジーに活用される新たな技術に関する探索や調査、研究活動 例）カメラデバイスの大幅な小型化・高画質化の可能性を秘めるとされるメタレンズ、光電融合商材等への活用が期待されるSiフォトニクス・フォトニクス結晶等 ※あくまで一例であり、中長期的に様々な分野に関わる可能性があります。 ■最先端半導体の製造に用いられるEUV露光装置の精度維持用の特殊マスクの研究開発 ■上記の研究開発に伴う |
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| 応募資格 | 【必須要件】 ■理工学部の出身者 ■新しい商品の探索及び研究に意欲のある方 【歓迎要件】 ・材料や分析の知識・経験 ・英語でのコミュニケーション ※入社後に様々な研修制度を利用し学習いただくことが可能です。ご入社時点で英語力を有している必要はありません。 |
| 給与 | 年収 450万円～700万円 |
| 勤務地 | 埼玉県新座市野火止7-21-33 |
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| 仕事内容 | 【パソナキャリア経由での入社実績あり】 国内の得意先との日々のコミュニケーションを通じて受注から納品までをフォローします。 技術的案件は、他部署と連携しながら得意先への提案を行いますので半導体に関する知識が身についていきます。 【期待する役割】 半導体は2030年には市場が1兆ドルを超えると予測され今後その重要性は増していきます。 その半導体を製造するために必要不可欠なのが、弊社のフォトマスクで |
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| 応募資格 | 【必須要件】 ■営業経験 【歓迎要件】 ・電子電機業界や半導体業界の経験 |
| 給与 | 年収 500万円～650万円 |
| 勤務地 | 東京都東新橋1-5-2 |
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転職したいけど、求人を探す時間がない人は、| 仕事内容 | 【パソナキャリア経由での入社実績あり】 下記いずれかの業務を経験に応じてご対応いただきます。 ■監査法人対応（財務諸表監査とJ-SOX監査の質問、エビデンス収集対応） ■固定資産管理（修繕費と固定資産の判断と減価償却費の予実管理） ■原価計算（製造工程を理解して、予定単価の設定を行う） ■予算策定の経験（設備投資予算と稼働予定を確認し、減価償却費の予算策定） 【募集背景/ミッション】 メンバー3 |
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| 応募資格 | 【必須要件】 ■固定資産管理または原価計算のご経験 |
| 給与 | 年収 500万円～800万円 |
| 勤務地 | 東京都東新橋1-5-2 |
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| 会社名 | テクセンドフォトマスク株式会社 |
|---|---|
| 所在地 | - |
| 紹介文 | - |
| 業種 | - |
| 設立 | 2021年 |
| 代表者 | - |
| 資本金 | 400百万円 |
| 売上 | - |
| 従業員数 | - |
| URL | - |
| 事業内容 | 半導体用フォトマスクの製造及び販売 ■「フォトマスク」とは LSIなど集積回路の製造工程で使用される重要部材です。表面の遮光膜にごく微細な回路パターンをエッチングした透明なガラス板で、回路をシリコンウェハに焼き付けるときの原版になります。フォトマスク上のパターンをシリコンウェハ上に縮小露光することにより微細なパターンを形成します。回路パターンデータを元に電子ビーム描画技術によってフォトマスク基板上にマスクパターンを形成し、その後エッチング・レジスト剥離・洗浄・測定・検査を経てフォトマスクが完成します。 |
| 主要取引先 | - |
| 主要取引銀行 | - |
