| 仕事内容 | 【神奈川/武蔵小杉】＜本社＞リスクマネジメント（ERM課配属）◇グローバルなリスク管理◇プライム上場 |
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| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・内外との折衝経験 ・高校化学レベルの基礎知識 ・日常会話程度の英語能力 ・PCスキル（Word、Excel、PowerPoint） ■歓迎条件： ・投資案件のリスク評価経験 ・半導体製造プロセス材料に... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 570万円～695万円 ＜賃金形態＞ 月給制 ＜賃金内訳＞ 月額（基本給）... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ 本社 住所：神奈川県川崎市中原区中丸子150 勤務地最寄駅：東急東横線・目黒線／武蔵小杉駅 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：会社の定める事業所 |
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| 仕事内容 | 【神奈川/寒川】半導体材料の開発（ArFレジスト）◇新規素材の設計や合成など◇低分子合成の経験歓迎 |
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| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・低分子の有機合成の実務経験、知識を有していること ＜語学力＞ 歓迎条件：英語初級 ＜語学補足＞ 英語に苦手意識がないこと |
| 給与 | ＜予定年収＞ 550万円～740万円 ＜賃金形態＞ 月給制 ＜賃金内訳＞ 月額（基本給）... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ TTIC(TOK技術革新センター) 住所：神奈川県高座郡寒川町田端1590 勤務地最寄駅：JR東海道線／茅ヶ崎（北口）駅 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：会社の定める事業所 |
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| 仕事内容 | 【神奈川/武蔵小杉】＜本社＞安全保障輸出管理◇グローバルに展開◎東証プライム上場・半導体材料メーカー |
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| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・安全保障輸出管理業務の実務経験（3～5年以上 ） ・外為法、米国輸出管理法（EAR）などの法令知識 ・教育・研修の企画・実施経験 ・内部監査の実務経験 ・英語力（TOEIC(R)テスト600点以上目安... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 530万円～740万円 ＜賃金形態＞ 月給制 ＜賃金内訳＞ 月額（基本給）... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ 本社 住所：神奈川県川崎市中原区中丸子150 勤務地最寄駅：東急東横線・目黒線／武蔵小杉駅 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：会社の定める事業所 |
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転職したいけど、求人を探す時間がない人は、| 仕事内容 | 【神奈川/武蔵小杉】＜本社＞税務（国内税務・国際税務）◇東証プライム上場・半導体材料メーカー |
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| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ◆応募要件 ・事業会社での経理・財務業務経験（税務経験や日商簿記2級程度の知識があると尚可） ・コミュニケーション能力（社内外の関係者やBIG４税理士法人との円滑なコミュニケーションおよび橋渡し役を担える方） ・半導... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 492万円～590万円 ＜賃金形態＞ 月給制 特記事項なし ＜賃金内訳＞ ... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ 本社 住所：神奈川県川崎市中原区中丸子150 勤務地最寄駅：東急東横線・目黒線／武蔵小杉駅 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：会社の定める事業所 |
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| 仕事内容 | 【神奈川/寒川】フォトレジスト材料の製品開発（半導体パッケージ技術で使用）◇賞与7.13か月実績 |
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| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・化学系メーカーでの勤務経験 ・TOEIC(R)テスト(R)テスト600点以上お持ちの方 |
| 給与 | ＜予定年収＞ 530万円～740万円 ＜賃金形態＞ 月給制 ＜賃金内訳＞ 月額（基本給）... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ TTIC(TOK技術革新センター) 住所：神奈川県高座郡寒川町田端1590 勤務地最寄駅：JR東海道線／茅ヶ崎（北口）駅 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：会社の定める事業所 |
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| 仕事内容 | 【神奈川/寒川】原材料の合成・研究開発＜次世代材料／EUV用金属酸化物レジストを担当＞プライム上場 |
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| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・有機合成化学の知識・スキルをお持ちの方 ・工業用合成、製法検討、工程管理などの生産技術に携わった経験をお持ちの方 |
| 給与 | ＜予定年収＞ 530万円～740万円 ＜賃金形態＞ 月給制 ＜賃金内訳＞ 月額（基本給）... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ TTIC(TOK技術革新センター) 住所：神奈川県高座郡寒川町田端1590 勤務地最寄駅：JR東海道線／茅ヶ崎（北口）駅 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：会社の定める事業所 |
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| 仕事内容 | 【職務概要】 同社にて下記業務をお任せいたします。 【職務詳細】 ・半導体形成材料（フォトレジストなど）の発明発掘、出願権利化、クリアランスに関わる業務 ・事業別知的財産戦略の企画、推進 【採用背景】 競合他社の活動を制限して自社の活動を有利にすることができる強い特許の取得が目的であり、特許の審査に精通した人材の獲得が必要なため。 【業務の魅力・やりがい】 同社のあらゆる事業や業務に密接に関 |
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| 応募資格 | 【必須】 ・国内外の特許の出願・権利化に関する知識 ・発明発掘、知的財産戦略業務のスキル ・審査官としての実務経験（任期付き審査官経験者など） ・英語の使用レベル （読解がメインで、文書作成と口頭コミュニケーションはあるとベター） 【尚可】 ・審査官として中堅以上で特許庁... |
| 給与 | 年収 500万円～700万円 |
| 勤務地 | 神奈川県高座郡寒川町田端1590 JR各線「茅ヶ崎」駅よりバスで約30分 勤務地変更の範囲:勤務地からの変更はなし |
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| 会社名 | 東京応化工業株式会社 |
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| 所在地 | 〒211-0012 神奈川県川崎市中原区中丸子150 |
| 紹介文 | - |
| 業種 | - |
| 設立 | 年1940年10月 |
| 代表者 | - |
| 資本金 | 14,640百万円 |
| 売上 | 200,966百万円 |
| 従業員数 | 1,996名 |
| URL | https://www.tok.co.jp/ |
| 事業内容 | ～様々な事業分野で産業界を支える微細加工技術のリーディングカンパニー※世界でもトップクラスのシェア～ ■概要：「フォトリソグラフィ」をコアテクノロジーとして最先端の微細加工技術を開拓しており、1940年にファインケミカルメーカーとして設立してから、1972年に国産初の半導体用ポジ型フォトレジストの開発に成功するなど、世界でもトップクラスのシェアを誇る、業界のリーディングカンパニーです。 ■事業内容： ・半導体・液晶ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂（フォトレジスト）・高純度化学薬品を中心とした製造 材料、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売※主要商品：フォトレジスト、高機能化学薬品 ■詳細： 1936年、医薬品の製造などに欠かせない化学品・水酸化カリウムの製造からスタート。1962年にはプリント基板用フォトレジスト（感光性有機樹脂）の製造を開始。以来、フォトリソグラフィ技術をコアテクノロジーとして、常に最先端の微細加工技術を切り拓き、豊富な技術資源を蓄積してきました。これは、ICやLSIなどの半導体、液晶ディスプレイや半導体パッケージなどの分野で利用されるほか、テレビ、携帯電話、スマートフォン、パソコン、カメラなどのディスプレイ製造分野、自動車部品、電子部品などの分野、太陽電池製造分野でも応用されています。TOKは、専門化学メーカーとして、高付加価値製品の微細加工技術に挑戦。日々の「ものづくり」によって、調和のとれた豊かな未来の創造に貢献しています。 |
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