| 仕事内容 | 【神奈川】イメージセンサーエンジニア※開発費は2兆円超/スピード・価格・品質強み/就業環境◎ |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■応募要件： ・電子工学あるいは同等の工学分野において学士以上の学位を有すること ・スマートフォン向けカメラモジュール、CMOSイメージセンサーのアーキテクチャ、動作原理、評価方法等に精通していること ・CMOSイメ... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 600万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細1＞ 日本研究所 (横浜) 住所：神奈川県横浜市神奈川区金港町3-1 コンカード横浜 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 ＜勤務地詳細2＞ 品川 住所：港区港南2-16-4 品川グランドセントラルタワー8階 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 |
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| 仕事内容 | 【横浜/大阪】パワーモジュールエキスパート◆HUAWEIの日本法人／年休125日 |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・電気・電子工学、半導体デバイスの専門知識を有し、学士号以上の資格 ・パワーモジュール関連分野での5年以上の実務経験 ・パワーモジュールパッケージング技術の知見、有限要素法解析ソフトウェアの使用及び寄生... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 900万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細1＞ 日本研究所 (横浜) 住所：神奈川県横浜市神奈川区金港町3-1 コンカード横浜 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 ＜勤務地詳細2＞ 大阪研究所 住所：大阪府大阪市北区中之島3-3-23 中之島ダイビル6階/6 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：本文参照 |
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| 仕事内容 | 【船橋】組み込み式ソフトウエアエンジニア◇HUAWEIの日本法人／年休125日 |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・自動化装置制御ソフトウェアの設計／開発経験がある方 ・チッププラットフォーム、C、C++などの言語に精通していて、MultiThreadソフトウェア開発能力がある方 |
| 給与 | ＜予定年収＞ 600万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ 船橋ラボ 住所：千葉県船橋市鈴身町488-19 勤務地最寄駅：北総線／小室駅 受動喫煙対策：屋内喫煙可能場所あり 変更の範囲：会社の定める事業所（リモートワーク含む） |
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転職したいけど、求人を探す時間がない人は、| 仕事内容 | 【東京】アカウントマネージャー（ストレージ製品・データ保存・保護のソリューション）◇年休125日◇ |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件 ・大卒以上（工学、通信またはコンピュータ関係学部歓迎） ・IT業界の経験、キーアカウントマネジメント経験3年以上（技術営業含む） ・マーケティング、プレゼンテーション、経営・マーケティング分析スキル、戦略... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 800万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ 本社 住所：東京都千代田区大手町1-5-1 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 |
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| 仕事内容 | 【東京】HUAWEIクラウドのプリセールス・テクニカルエンジニア◇年休125日◇ |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ 応募要件 ・パブリッククラウド/プライベートクラウドの1つまたは複数分野の機能、原理、アーキテクチャに精通している方 ※プログラミングの基礎や開発経験がある方を優遇 ・ローカル→クラウド・クラウド→ローカルへの移行方... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 600万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ 本社 住所：東京都千代田区大手町1-5-1 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 |
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| 仕事内容 | 【東京／大阪】ディスプレイ向けの画像処理アルゴリズム技術者◇HUAWEIの日本法人／年休125日 |
|---|---|
| 応募資格 | 学歴不問 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件：下記のいずれかの能力・経験を有すること （1）OLED向け画像処理アルゴリズム開発経験（IR drop補正、DeMura など） （2）C、C＋＋、C＃、Java、Python等を用いた画像処理ソフトウェア設計経験 （3）「S... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 900万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細1＞ 中之島ダイビル 住所：大阪府大阪市北区中之島中之島ダイビル ６階 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 ＜勤務地詳細2＞ 東京研究所 住所：東京都港区港南2-16-4 品川グランドセントラルタワー 勤務地最寄駅：各線／品川駅 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範... |
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| 仕事内容 | 【千葉／船橋】ダイボンド（接合）技術者◇開発、新規導入～育成まで※HUAWEIの日本法人／就業環境◎ |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・はんだによるdie-to-wafer, die-to-substrateのダイボンディング装置の操作経験 ・ビジネスレベルの英語力※英文技術文書（マニュアル等）の読解力を有し技術的なコミュニケーション... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 600万円～1,000万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ 船橋ラボ 住所：千葉県船橋市鈴身町488-19 勤務地最寄駅：北総線／小室駅 受動喫煙対策：屋内喫煙可能場所あり 変更の範囲：本文参照 |
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| 仕事内容 | 【千葉／船橋】ダイボンド（接合）シニア技術者◇開発、新規導入～育成まで※売上高11兆円超／就業環境◎ |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・はんだによるdie-to-wafer, die-to-substrateのダイボンディング装置の操作経験 ・ビジネスレベルの英語力※英文技術文書（マニュアル等）の読解力を有し技術的なコミュニケーション... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 900万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ 船橋ラボ 住所：千葉県船橋市鈴身町488-19 勤務地最寄駅：北総線／小室駅 受動喫煙対策：屋内喫煙可能場所あり 変更の範囲：本文参照 |
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| 仕事内容 | 【千葉／船橋】シリコン光分野の上級専門家◇企画・研究から携わる※売上高11兆円超／就業環境◎ |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・受動的または能動的なシリコン光設計に精通し、現段階のシリコン光加工の技術的限界に精通 ・光通信全体の技術方案又は重要機能ユニットを設計できる技術力、シリコン光システムの複数/単一部品の設計と特性シミュ... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 1,300万円～2,000万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ 船橋ラボ 住所：千葉県船橋市鈴身町488-19 勤務地最寄駅：北総線／小室駅 受動喫煙対策：屋内喫煙可能場所あり 変更の範囲：本文参照 |
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| 仕事内容 | 【千葉／中国】マイクロナノ製造プロセス統合専門家（化合物半導体プロセス統合領域） |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■応募要件： ・修士以上、半導体物理学、マイクロエレクトロニクス、材料関連の専攻 ・化合物半導体パワーデバイスの設計、物理構造、関連原理に精通しており、実際の開発・生産経験 ・パワー半導体デバイスのプロセスフロー、製... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 1,300万円～2,000万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細1＞ 船橋ラボ 住所：千葉県船橋市鈴身町488-19 勤務地最寄駅：北総線／小室駅 受動喫煙対策：屋内喫煙可能場所あり ＜勤務地詳細2＞ 中国 住所：海外 中国 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：本文参照 |
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転職したいけど、求人を探す時間がない人は、| 仕事内容 | 【中国】パワーデバイスプロセス専門家（化合物半導体プロセス領域）◇フレックス |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■応募要件： ・電力電子類、材料類、機械類などの関連専攻 ・IGBT、化合物半導体パワーデバイスの動作原理及び信頼性試験に精通 ・IGBT、化合物半導体などのパワーデバイス業界の現状と発展動向の理解 ・ハイパワーパッ... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 1,300万円～2,000万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ 中国 住所：海外 中国 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：本文参照 |
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| 仕事内容 | 【千葉／中国】パワーデバイスプロセスエンジニア(化合物半導体プロセス領域)◇HUAWEIの日本法人 |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■応募要件 ・電力電子類、材料類、機械類などの専攻 ・IGBT、化合物半導体パワーデバイスの動作原理及び信頼性試験に精通、業界の現状と発展動向を理解 ・ハイパワーパッケージプロセス関連製品の製造技術に精通し、5年以上... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 900万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細1＞ 船橋ラボ 住所：千葉県船橋市鈴身町488-19 勤務地最寄駅：北総線／小室駅 受動喫煙対策：屋内喫煙可能場所あり ＜勤務地詳細2＞ 中国 住所：海外 中国 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：本文参照 |
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| 仕事内容 | 【千葉／中国】精密設備開発エキスパート（機械）◇HUAWEIの日本法人／年休125日◇ |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・機械または電気機械関連の大卒以上、英語レベル4以上 ・Pro/E、Solidworks、AutoCAD 等のソフトウエアに精通する、精密自動化装置の開発経験がある。半導体装置またはその他の精密自動化装... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 1,300万円～2,000万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細1＞ 船橋ラボ 住所：千葉県船橋市鈴身町488-19 勤務地最寄駅：北総線／小室駅 受動喫煙対策：屋内喫煙可能場所あり ＜勤務地詳細2＞ 中国 住所：海外 中国 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：本文参照 |
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| 仕事内容 | 【千葉／中国】レンズユニットテストソリューションエキスパート◇HUAWEIの日本法人／フレックス◇ |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・仕様書に基づいてテスト内容及び手順を明確し、検証要領書を作成 ・設備デバッグ、ユニットの各性能評価 ・工程不良分析及び対策、時間内に出荷することを保証 ・検証設備のデバッグ方式やテストプロセス内容を最... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 900万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細1＞ 船橋ラボ 住所：千葉県船橋市鈴身町488-19 勤務地最寄駅：北総線／小室駅 受動喫煙対策：屋内喫煙可能場所あり ＜勤務地詳細2＞ 中国 住所：海外 中国 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：本文参照 |
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| 仕事内容 | 【千葉／中国】Hマイクロ・ナノ製造プロセスエンジニア（GaNデバイスプロセス方向） |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・理工学専攻、学士以上の者 ・リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP などの1つ以上の装置またはプロセスにおける3年以上の経験 ・リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散またはCMP関連のプロ... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 900万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細1＞ 船橋ラボ 住所：千葉県船橋市鈴身町488-19 勤務地最寄駅：北総線／小室駅 受動喫煙対策：屋内喫煙可能場所あり ＜勤務地詳細2＞ 中国 住所：海外 中国 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：本文参照 |
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| 仕事内容 | 【大阪／横浜】リチウム電池の設計 ◆HUAWEIの日本法人／研究開発の投資額世界トップ級 |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ◆必須要件： 1.リチウムイオン電池の設計に精通し、リチウムイオン電池の設計ポイントと技術特性の正方形、ソフトバッグ、円筒形および他の異なる形態を理解している。 2.バッテリアプリケーションの寿命、安全性およびその他... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 600万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細1＞ 大阪研究所 住所：大阪府大阪市北区中之島3-3-23 中之島ダイビル6階/6 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 ＜勤務地詳細2＞ 日本研究所 (横浜) 住所：神奈川県横浜市神奈川区金港町3-1 コンカード横浜 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 |
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| 仕事内容 | 【大阪／横浜】リチウムイオン電池のプロセス開発 ◆HUAWEIの日本法人／研究開発投資額世界トップ級 |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ◆必須要件： 1.リチウムイオン電池プロセスに精通し、異なる形態のリチウムイオン電池のプロセスルートとプロセスの長所・短所を理解し、プロセスルートにユニークな洞察力と企画力を持つ。 2.生産ライン、機器のプロセス能力... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 600万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細1＞ 大阪研究所 住所：大阪府大阪市北区中之島3-3-23 中之島ダイビル6階/6 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 ＜勤務地詳細2＞ 日本研究所 (横浜) 住所：神奈川県横浜市神奈川区金港町3-1 コンカード横浜 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 |
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| 仕事内容 | 【横浜】マイクロポンプモジュール開発 ◆HUAWEIの日本法人／研究開発の投資額世界トップ級 |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ◆必須要件： ・材料、化学、物理、機械およびその他の関連分野の専門知識を有し、学士号以上の資格を有す ・マイクロポンプモジュール開発における10年以上の実務経験 ・マイクロエアポンプモジュールのプロセス開発及び品質管... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 600万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ 日本研究所 (横浜) 住所：神奈川県横浜市神奈川区金港町3-1 コンカード横浜 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 |
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| 仕事内容 | 【大阪／東京】TFTデバイス、バックプレーン、プロセス開発※開発費は2兆円超 |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・材料、化学、物理学、半導体技術の専門知識、学士号以上 ・酸化物TFTデバイス、その他TFTデバイス開発の10年以上の実務経験 ・TFTデバイスの構造とその物理的・電気的振る舞いに精通していること ・薄... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 600万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細1＞ 大阪研究所 住所：大阪府大阪市北区中之島3-3-23 中之島ダイビル6階/6 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 ＜勤務地詳細2＞ 東京研究所 住所：東京都港区港南2-16-4 品川グランドセントラルタワー 勤務地最寄駅：各線／品川駅 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 |
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| 仕事内容 | 【横浜】IMU／ジャイロスコープの設計開発 ◆HUAWEIの日本法人／研究開発の投資額世界トップ級 |
|---|---|
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ◆必須要件： 1、産業または学術経験ので長年の経験を持ち、MEMS IMU／ジャイロチップの主要なアーキテクチャ設計に精通している。市場のニーズと産業発展の傾向を深く理解している方。 2、少なくとも一つの業界主流ME... |
| 給与 | ＜予定年収＞ 600万円～1,500万円 ＜賃金形態＞ 年俸制 ＜賃金内訳＞ 年額（基本... |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細1＞ 日本研究所 (横浜) 住所：神奈川県横浜市神奈川区金港町3-1 コンカード横浜 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 ＜勤務地詳細2＞ 大阪研究所 住所：大阪府大阪市北区中之島3-3-23 中之島ダイビル6階/6 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 ＜勤務地詳細3＞ 東京研... |
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| 会社名 | 華為技術日本株式会社 |
|---|---|
| 所在地 | 〒100-0004 東京都千代田区大手町1-5-1 |
| 紹介文 | - |
| 業種 | - |
| 設立 | 年2005年11月 |
| 代表者 | - |
| 資本金 | 4,564百万円 |
| 売上 | 12,200,000百万円 |
| 従業員数 | 1,081名 |
| URL | http://www.huawei.com/jp/ |
| 事業内容 | ■事業内容： 同社は、中国のファーウェイ・テクノロジーズ（Huawei Technologies Co, Ltd）が100％出資する日本法人です。2005年に設立し、日本市場向けにファーウェイ製品・ソリューションの販売、サポートの提供を行っています。 具体的には、通信事業者向けネットワーク事業、法人向けICTソリューション事業、コンシューマー向け端末事業の3つの事業分野を柱とし、日本市場の顧客のニーズに応える幅広い製品やサービスを提供しています。 |
| 主要取引先 | - |
| 主要取引銀行 | - |
