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仕事内容 | 【横浜】制御ソフト設計※出張・転勤なし/入社後のキャリア充実/半導体表面処理装置領域のトップメーカー |
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応募資格 | <最終学歴>大学院、大学、短期大学、専修・各種学校、高等専門学校卒以上 <応募資格/応募条件> ■必須条件:(いずれか必須) ・PLCプログラミングを利用した設計もしくは開発経験のある方 ・設備機械の制御設計(PLC,コンピュータソフトウェア)経験のある方 ■使用ツールと... |
給与 | <予定年収> 500万円~700万円 <賃金形態> 月給制 補足事項無し <賃金内訳> ... |
勤務地 | <勤務地詳細> 本社 住所:神奈川県横浜市西区みなとみらい4-3-5 勤務地最寄駅:JR,京浜急行線/横浜駅 受動喫煙対策:敷地内喫煙可能場所あり 変更の範囲:会社の定める事業所 |
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仕事内容 | 【横浜】研究開発職(光学)◆年収600万円~/Appleのサプライヤーで途絶えぬ需要◎ |
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応募資格 | <最終学歴>大学院、大学、短期大学、専修・各種学校、高等専門学校卒以上 <応募資格/応募条件> ■必須条件:下記いずれか必須 ・電気・電子・半導体などの光学の知識(大学卒程度) ・電気・電子・半導体に関する開発サイドのご経験 ※異業界出身者も活躍中!ご経験・素養に応じて... |
給与 | <予定年収> 600万円~800万円 <賃金形態> 月給制 <賃金内訳> 月額(基本給)... |
勤務地 | <勤務地詳細> 本社 住所:神奈川県横浜市西区みなとみらい4-3-5 勤務地最寄駅:みなとみらい線/新高島駅 受動喫煙対策:敷地内喫煙可能場所あり 変更の範囲:会社の定める事業所(リモートワーク含む) |
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仕事内容 | 【横浜】研究開発職(プラズマ)◆年収600万円~/Appleのサプライヤーで途絶えぬ需要◎ |
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応募資格 | <最終学歴>大学院、大学、短期大学、専修・各種学校、高等専門学校卒以上 <応募資格/応募条件> ■必須条件:下記いずれか必須 ・電気回路の知識(大学卒程度) ・プラズマ生成技術に関する基本理解 ・プラズマ生成技術の経験があること ※異業界出身者も活躍中。ご経験・素養に応... |
給与 | <予定年収> 600万円~800万円 <賃金形態> 月給制 <賃金内訳> 月額(基本給)... |
勤務地 | <勤務地詳細> 本社 住所:神奈川県横浜市西区みなとみらい4-3-5 勤務地最寄駅:みなとみらい線/新高島駅 受動喫煙対策:敷地内喫煙可能場所あり 変更の範囲:会社の定める事業所(リモートワーク含む) |
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仕事内容 | 【横浜】法人営業(半導体領域)※業界未経験歓迎/英語生かせる/業界トップメーカー |
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応募資格 | <最終学歴>大学院、大学、短期大学、専修・各種学校、高等専門学校卒以上 <応募資格/応募条件> ~業界未経験歓迎~ ■必須条件: ・法人営業経験 ・ビジネスレベルの英語スキル(目安:TOIEC800点以上) ■歓迎条件: ・製造業界での営業経験 <語学力> 必要条... |
給与 | <予定年収> 500万円~750万円 <賃金形態> 月給制 <賃金内訳> 月額(基本給)... |
勤務地 | <勤務地詳細> 本社 住所:神奈川県横浜市西区みなとみらい4-3-5 勤務地最寄駅:みなとみらい線/新高島駅 受動喫煙対策:敷地内喫煙可能場所あり 変更の範囲:会社の定める事業所(リモートワーク含む) |
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仕事内容 | 【横浜】法人営業※管理職候補/英語生かせる/年収800万~/フレックス/トップメーカー |
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応募資格 | <最終学歴>大学院、大学卒以上 <応募資格/応募条件> ■必須条件: ・ビジネスレベルの英語スキル(目安:TOIEC800点以上) ・電子、半導体領域での営業経験(5年以上) <語学力> 必要条件:英語上級 |
給与 | <予定年収> 800万円~1,000万円 <賃金形態> 月給制 <賃金内訳> 月額(基本... |
勤務地 | <勤務地詳細> 本社 住所:神奈川県横浜市西区みなとみらい4-3-5 勤務地最寄駅:みなとみらい線/新高島駅 受動喫煙対策:敷地内喫煙可能場所あり 変更の範囲:会社の定める事業所(リモートワーク含む) |
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会社名 | 株式会社シンクロン |
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所在地 | 〒220-8680 神奈川県横浜市西区みなとみらい4-3-5 |
紹介文 | ★設立68年の歴史ある研究開発型企業。光学真空薄膜形成装置のリーディングカンパニーとして光学・タッチパネル分野において高いシェアを誇っております★ 【会社概要】 ■カメラレンズ等の光学分野向けでは内外のお客様より、品質・性能・納期に関し 高いご評価を頂戴し、他社の追随を許さぬ地位を築き上げているものと自負しております。 近年では電子部品やLED素子製造過程にも用途が広がる中、スマートフォンやタブレット端末用に開発された同社製品が最大手のお客様にご採用頂き、ビジネスは活況を呈しております。 【特徴・強み】 ■お客様毎の独自の高いニーズに対し、その殆どを特注品という形で満たしてきた”技術力”が強みです。前例のないテーマにチャレンジし続けることで、他社には真似の出来ない同社独自の製品開発を実現しております。また、代理店経由ではなくユーザーと直接取引をしており、顧客の声がダイレクトに聞こえてきます。中国・台湾・マレーシア・タイ・アメリカにも拠点を有し現地で顧客に対し技術サポート/サービスを直接提供する体制を構築中です。 |
業種 | 半導体・電子・電気部品(メーカー) |
設立 | 年1951年5月 |
代表者 | - |
資本金 | 73百万円 |
売上 | - |
従業員数 | 323名 |
URL | http://www.shincron.co.jp/ |
事業内容 | ■事業内容: 真空薄膜形成装置ならびに各種キーコンポーネンツの研究、開発、設計、製造、販売、技術サービスを提供しています。 ■製品: ロードロック式スパッタ成膜装置、高速(IAD)真空薄膜形成装置、連続式真空薄膜形成装置、精密真空薄膜形成装置等 ※真空薄膜形成装置はデジタルカメラ、携帯電話、タブレット端末等様々な製品を生産する企業の工場に配置され、製造ラインの中で真空薄膜形成工程を担う装置です。 |
主要取引先 | - |
主要取引銀行 | - |