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| 仕事内容 | 【職務概要】 同社主力製品である「電子ビームマスク描画装置」の次世代装置に向けたシステム開発、要素開発業務をご経験に合わせてお任せします。 【職務詳細】 ・次世代描画装置のシステム／要素開発 装置の運用評価を行い、描画精度やスループットがシステム設計通りの仕様かデータ解析を実施。解析結果を他部署と共有し、原因調査・対策検討・補正機能の実装指示・特許提案・パテントクリアランス対応まで遂行します。 |
|---|---|
| 応募資格 | 【必須】 ・半導体領域での技術業務経験（要素開発、設計、評価、解析のいずれか）※リソグラフィ、エッチング、アッシング、CMP、成膜、装置制御など ・以下のいずれかの経験 1.数十名規模の技術プロジェクトにおけるリーダー経験（進捗管理、技術判断、折衝等） 2.英語を用いた海外... |
| 給与 | 年収 700万円～900万円 |
| 勤務地 | 神奈川県横浜市西区みなとみらい4‐6‐2 みなとみらい線「みなとみらい」駅徒歩2分 ※社内規定により、利用路線によって通勤の際の降車駅が異なります。 勤務地変更の範囲:海外現地法人を含む、同社各拠点 |
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| 会社名 | 株式会社ニューフレアテクノロジー |
|---|---|
| 所在地 | - |
| 紹介文 | - |
| 業種 | - |
| 設立 | 2002年8月1日 |
| 代表者 | - |
| 資本金 | 64億8,600万円 |
| 売上 | - |
| 従業員数 | - |
| URL | |
| 事業内容 | 【事業内容】■電子ビームマスク描画装置■エピタキシャル成長装置■マスク検査装置の開発・製造・販売 【会社の特徴】2002年の創業以来、半導体製品の製造に不可欠な最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・提供を通じて 世界的な半導体産業の発展に貢献しており、経済産業省の『グローバルニッチトップ企業100選』に選定されています。 同社は半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスクに高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーです。 また、フォトマスクの仕上がりを高精度に確認するマスク検査装置や、EV化などで市場拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を 展開し、世界中のお客様から高い評価を受けています。次世代技術であるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術と検査技術を融合させた 先端検査装置も実用化段階を迎えています。 |
| 主要取引先 | - |
| 主要取引銀行 | - |
