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| 仕事内容 | 【職務概要】 同社の主力製品である電子ビームマスク描画装置の機械設計担当として、 構成ユニットの機能開発および設計業務をお任せいたします。 【職務詳細】 ・装置の構造物／機構物の設計 （装置の土台となる架台、人が載る作業台、重量物を移動させるクレーンなど） ・真空搬送系の設計（回転機構、上下機構、真空チャンバーなど） ・試作品の評価、検証、デザインレビュー等の開発設計全般業務 ・モジュール開発の |
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| 応募資格 | 【必須】 ・機構設計の知識（材料力学・熱力学・流体力学・機械力学）や経験 ・機械系ユニット、構造物／機構物の計画図および組立図面の作図経験 ・機構設計仕様書の作成経験 ・3D CADでのモデルおよび機械図面の作成経験 【尚可】 ・機械安全／SEMI規格の知識や経験 ・真空... |
| 給与 | 年収 550万円～750万円 |
| 勤務地 | 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1 JR根岸線「新杉田」駅徒歩5分 勤務地変更の範囲:海外現地法人を含む、同社各拠点 |
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| 会社名 | 株式会社ニューフレアテクノロジー |
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| 所在地 | - |
| 紹介文 | - |
| 業種 | - |
| 設立 | 2002年8月1日 |
| 代表者 | - |
| 資本金 | 64億8,600万円 |
| 売上 | - |
| 従業員数 | - |
| URL | |
| 事業内容 | 【事業内容】■電子ビームマスク描画装置■エピタキシャル成長装置■マスク検査装置の開発・製造・販売 【会社の特徴】2002年の創業以来、半導体製品の製造に不可欠な最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・提供を通じて 世界的な半導体産業の発展に貢献しており、経済産業省の『グローバルニッチトップ企業100選』に選定されています。 同社は半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスクに高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーです。 また、フォトマスクの仕上がりを高精度に確認するマスク検査装置や、EV化などで市場拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を 展開し、世界中のお客様から高い評価を受けています。次世代技術であるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術と検査技術を融合させた 先端検査装置も実用化段階を迎えています。 |
| 主要取引先 | - |
| 主要取引銀行 | - |
