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| 仕事内容 | 【職務概要】 電子ビームマスク描画装置におけるカソードの機能・製造・運用方法に関する研究開発をお任せいたします。 カソードの長寿命化、高輝度化、安定性向上といったテーマに取り組んでいただき、試行錯誤を重ねながら課題解決を進めていただきます。 【職務詳細】 ・長寿命化：寿命のモデル化（寿命に関する要因分析と仮説立案）、長寿命化のための設計・試作・評価 ・高輝度化：大電流密度の研究開発（電極構造・可 |
|---|---|
| 応募資格 | 【必須】 ・電磁気学、電子光学、荷電粒子源のいずれかについて基礎知識をお持ちの方 ※物理系、理工系の学部を卒業された方を想定 ※半導体業界の経験は不問 【尚可】 ・真空装置を使用した経験をお持ちの方 ・電子顕微鏡（SEM等）を製造するメーカーでの実務経験をお持ちの方 ・材... |
| 給与 | 年収 550万円～750万円 |
| 勤務地 | 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1 JR根岸線「新杉田」駅徒歩5分 勤務地変更の範囲:海外現地法人を含む、同社各拠点 |
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| 会社名 | 株式会社ニューフレアテクノロジー |
|---|---|
| 所在地 | - |
| 紹介文 | - |
| 業種 | - |
| 設立 | 2002年8月1日 |
| 代表者 | - |
| 資本金 | 64億8,600万円 |
| 売上 | - |
| 従業員数 | - |
| URL | |
| 事業内容 | 【事業内容】■電子ビームマスク描画装置■エピタキシャル成長装置■マスク検査装置の開発・製造・販売 【会社の特徴】2002年の創業以来、半導体製品の製造に不可欠な最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・提供を通じて 世界的な半導体産業の発展に貢献しており、経済産業省の『グローバルニッチトップ企業100選』に選定されています。 同社は半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスクに高精度な回路パターンを形成する 電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーです。 また、フォトマスクの仕上がりを高精度に確認するマスク検査装置や、EV化などで市場拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を 展開し、世界中のお客様から高い評価を受けています。次世代技術であるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術と検査技術を融合させた 先端検査装置も実用化段階を迎えています。 |
| 主要取引先 | - |
| 主要取引銀行 | - |
