正社員
【パソナキャリア経由での入社実績あり】
【職務内容】
フォトレジスト素材の設計、合成、分析、特性評価
※下記キーワードに関連するご経験をお持ちの方は積極的にご応募ください!
<キーワード>
半導体、微細加工、リソグラフィ、フォトレジスト、ArF、KrF、EUV、EB、感光性、光反応、フォーミュレーション
募集職種 |
技術職系(素材、食品、メディカル、バイオ) > 素材、半導体素材、化成品、バイオ関連 > 基礎・応用研究(素材・半導体素材・化成品・バイオ) 技術職系(素材、食品、メディカル、バイオ) > 素材、半導体素材、化成品、バイオ関連 > 生産技術・生産管理(素材・半導体素材・化成品・バイオ) 技術職系(素材、食品、メディカル、バイオ) > 素材、半導体素材、化成品、バイオ関連 > 品質管理・保証(素材・半導体素材・化成品・バイオ) |
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雇用形態 | 正社員 |
勤務時間 | - |
勤務地 | 神奈川県 |
交通 | - |
給与 | 年収 700万円~1300万円 |
待遇・福利厚生 | 経験・スキルに応じて変動します |
休日・休暇 | 完全週休二日(土日) |
応募資格 | 【必須要件】※下記いずれかのご経験をお持ちの方※ ■フォトレジストの研究開発の経験があり、先端半導体リソグラフィに精通していること ・フォトレジストの研究開発(ArF, EUV向け) ・フォトレジストの処方(フォーミレーション)、物性評価(特にプロセス適性)、ポリマー/感光剤(PAG)等の設計・合成、分子またはプロセスシミュレーション ※フォトレジストの開発経験がなくても、下記の経験があればOKです ■フォトレジスト周辺素材:BARC(反射防止膜、アンダーレイヤー)、SOH(スピンオンハードマスク)等の処方/物性評価 |
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応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
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選考プロセス | - |
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