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正社員 イーキャリアFA

【神奈川】半導体向け薬液処方開発(エッチング液・洗浄液等)(正社員) / 会社名非公開

会社名非公開 求人ID:36020012
求人の特徴
  • 上場企業
  • フレックス勤務
  • 土日祝休み
  • 年間休日120日以上
  • 未経験歓迎
  • 管理職・マネージャー職採用
  • 社宅・家賃補助あり

仕事内容

【パソナキャリア経由での入社実績あり】
【職務概要】
富士フイルムの半導体材料事業は、長年培ってきたフォトレジストを代表としたパターニング技術を、半導体デバイスに応用することから開始し、現在ではパターニングから半導体材料/電子材料全般への拡大を図っています。
本職務では、半導体製造プロセス用洗浄液(特にCMP後洗浄液・ドライエッチ後洗浄液・エッチング液・CMPスラリー)の薬液処方開発および市場導入、量産品の課題解決を担っていただきます。

【職務】
半導体製造プロセス用洗浄液事業において、薬液開発、国内および海外の幅広い顧客対応(顧客ニーズ把握~商品企画~顧客への導入~量産品立ち上げ)を担っていただきます。
<職務内容>
・薬液開発(※海外関係会社と協業、MI(マテリアルインフォマティクス)/LA(ラボラトリーオートメーション)活用)
・国内外の顧客、顧客候補とのコンタクトを通じた顧客ニーズのリサーチ
・顧客ニーズに対応した評価系探索・構築
・顧客への新製品導入活動
・量産品立ち上げ

【仕事の魅力】
半導体製造プロセスにおいて洗浄工程は欠かせぬ工程であり、歩留まり向上のためのキープロセスとなります。前工程・後工程関わらず、半導体の微細化・市場の成長に伴って洗浄薬液の課題やニーズが増えており、今後も技術革新が期待されています。洗浄工程は直前の工程により洗浄対象が変化するため、顧客との議論・情報収集が重要であり、その情報に基づく、評価系構築~薬液開発~量産立ち上げ、という一連の研究開発プロセス全てに関わることができます。
また、CMP(化学機械研磨)工程においては、研磨液開発チームとCMP後洗浄液開発チームがグローバルな共同開発体制を構築し、Total solutionとしてCMP関連材料(スラリー+洗浄液)を開発しているため、日常的に海外との協業が行われており、アメリカ・台湾への海外駐在のチャンスもあります。近年は、MI(マテリアルインフォマティクス)・LA(ラボオートメーション)の活用も積極的に進めており、化学の知識に加え、統計学・計算化学・プログラミングのスキルを持つ方は、活躍の場が用意されています。

【同社について】
■事業を通じて社会課題の解決に貢献:
写真をはじめとするイメージング事業の継続拡大はもちろんのこと、…

募集要項

募集職種 技術職系(素材、食品、メディカル、バイオ) > 素材、半導体素材、化成品、バイオ関連 > 基礎・応用研究(素材・半導体素材・化成品・バイオ)
雇用形態 正社員
勤務時間 -
勤務地 神奈川県
交通 -
給与 年収 500万円~1300万円
待遇・福利厚生 経験・スキルに応じて変動します
休日・休暇 完全週休二日(土日)

応募方法

応募資格 【必須要件】
・以下いずれかの経験を有する方
(1)半導体分野におけるCMP後洗浄液・ドライエッチ後洗浄液・エッチング液・CMPスラリーに関する薬液開発経験
(2)MIまたはLAを利用した高機能材料の開発経験
応募方法 このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
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選考プロセス -

企業情報

会社名称 会社名非公開
所在地 -
事業内容 匿名求人のため、求人詳細につきましてはご面談時にお伝え致します。
代表者 -
URL
設立 2006年
資本金 40,000百万円
売上 -
従業員数 -
平均年齢 -
主要取引先 -
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