正社員
【パソナキャリア経由での入社実績あり】
【仕事内容】
■パワー半導体の研究開発
・AlN基板上のエピタキシャル成長技術の開発
・エピ成長した薄膜の解析
・Simulation等によるエピ構造やデバイス構造の工夫や改善提案
・富士の開発メンバーへの情報共有化、生産技術適用に向けた検討
【募集背景】
旭化成グループではAlN基板を用いた新規デバイスの開発を行っています。これまでに世界初のUV-Cレーザーダイオードの室温連続発振や縦型p-nダイオードなどの成果を実現しており、今後さらに開発を加速するため、開発の要となるエピタキシャル薄膜成長を担うことができる仲間を募集いたします。
【仕事の魅力・やりがい】
・名古屋大学の世界トップクラスの研究者に囲まれた環境で自身の能力を研鑽できます。
・旭化成グループ内の事業部組織と連携することで、自身の研究成果を社会実装へと導く道のりを当事者として経験できます。
【キャリアパスイメージ】
▼1～3年後
AlN基板を用いたパワー半導体の研究成果について対外発表を行い、この分野における第一人者としてご活躍いただきたいと考えています。
また、旭化成グループ内の研究開発テーマの方向性についてアイデアの創出や提案を行い、業務を推進いただけることを期待しています。
▼3～5年後
研究だけにとどまらず、その成果を社会実装するためのロードマップを提示し、旭化成グループにおけるパワー半導体研究開発を引っ張っていくリーダーとしてのご活躍を期待しています。
【参考URL】
https://www.nagoya-u.ac.jp/researchinfo/result/2023/12/aln-pn-aln.html
【求める人物像】
・自分自身で仮説を立て、それを検証するための手段を積極的に立案し、自ら推進できる方。
・協調性があり、関係部署メンバーとコミュニケーションしながら、周囲を巻き込んで業務遂行できる方。
・困難があっても、前向きに粘り強く課題に挑戦していける方。
| 募集職種 |
技術職（電気、電子、機械） > 生産技術、製造技術、プロセス開発 > 生産技術、製造技術、プロセス開発（家電・AV・コンピュータ関連） 技術職系（素材、食品、メディカル、バイオ） > 素材、半導体素材、化成品、バイオ関連 > 基礎・応用研究（素材・半導体素材・化成品・バイオ） |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 勤務時間 | - |
| 勤務地 | 愛知県名古屋市 |
| 交通 | - |
| 給与 | 年収 600万円～900万円 |
| 待遇・福利厚生 | 経験・スキルに応じて変動します |
| 休日・休暇 | 週休二日(土日) |
| 応募資格 | 【必須要件】 ■MOCVDまたはMBEを用いた化合物半導体薄膜成長技術の経験（3年以上） 【歓迎要件】 ■窒化物半導体薄膜成長または化合物半導体デバイスプロセスの経験 ■現場作業安全に関連する資格（危険物取扱者、特化則、有機則など） |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
|
| 選考プロセス | - |
| 会社名称 | 旭化成株式会社 |
|---|---|
| 所在地 | 〒100-0006 東京都千代田区有楽町1-1-2 日比谷三井タワー（東京ミッドタウン日比谷） |
| 事業内容 | ■事業概要： ・マテリアル領域：＜繊維事業、ケミカル事業、エレクトロニクス事業＞ ケミカルをベースとした高度な技術と新たな発想で、環境にやさしく付加価値の高い素材・製品を開発し、未来のくらしをリードします。 ・住宅領域：＜住宅事業、建材事業＞ 戸建住宅「へーベルハウス」と軽量気泡コンクリート「へーベル」を中心に、人と環境にやさしい技術とサービスで、安全・安心で快適な住まい方を提案します。 ・ヘルスケア領域：＜医薬事業、医療事業、クリティカルケア事業＞ 専門性のある高度な技術を進化・融合させ、社会が求める医療ニーズに応えることで、患者様のQOL（生活の質）の向上に貢献します。 |
| 代表者 | 工藤 幸四郎 |
| URL | https://www.asahi-kasei.com/jp/ |
| 設立 | 年1931年5月 |
| 資本金 | 103,389百万円 |
| 売上 | 2,726,485百万円 |
| 従業員数 | 48,897名 |
| 平均年齢 | 41.5歳 |
| 主要取引先 | - |
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