正社員
【パソナキャリア経由での入社実績あり】
【採用背景】
当社では、収益の柱として当社の持続的成長に寄与することが期待されているEUV用CNTペリクルを開発し、量産化を進めています。ペリクルはフォトマスク（半導体回路の原版）の表面に装着する薄い保護膜であり、傷やホコリを付きにくくし、フォトマスクの検査・交換頻度を抑制する、露光工程の生産性向上には欠かせない防塵保護膜です。
当社はこのペリクルの世界トップメーカーであり、EUV用CNTペリクルを製品化することで、世界唯一のEUVペリクルメーカーとして今後のリソグラフィーロードマップを支え、世界の半導体市場の成長に貢献していきます。量産化には様々な難課題が残されており、メンバー間のコミュニケーションを活性化し、共に解決していく挑戦意欲ある人材を募集します。
＜担当職務＞
海外顧客・研究機関および三井化学グループ関係会社を束ねるプロジェクトマネージャーとして、ペリクル製品の最終仕様、顧客要求等の明確化を行うとともに、得られた情報から成功（顧客採用）のための必要十分条件を見いだしていく。
◇担当製品（ペリクル）について:
半導体や液晶パネルの露光工程において、微細パターンが描かれたフォトマスクに塵が付着しシリコンウェハーやパネル基盤に結像することを防ぐために、フォトマスクのカバーとして使用される保護膜です。 同社は半導体業界の最先端技術であるEUV露光に用いられるEUVペリクルの事業化を果たしたトップランナーであり、半導体リソグラフィー分野で世界ナンバーワンのＡＳＭＬ社から同EUVペリクル事業のライセンス契約を受け、生産・販売を行っております。また、22年5月には旭化成社のペリクル事業を取得し、新製品の開発や最先端の技術向上を目指し、世界“No.1”の総合ペリクルメーカーの地位を強固なものとしております。 また、現在ASML社とIMEC社と最先端露光機用カーボンナノチューブ膜ペリクルの共同開発も行っており、事業化を進めております。
■同社の魅力
◇売上高1.7兆円を誇る東証プライム上場総合化学メーカー:
残業時間平均20.2時間、年次有給休暇取得率70%、平均勤続年数男性19.0年、女性20.4年、平均年収838万円と働きやすい環境が整っております。
◇世界トップクラス製品多数保…
| 募集職種 |
技術職系（素材、食品、メディカル、バイオ） > 素材、半導体素材、化成品、バイオ関連 > 基礎・応用研究（素材・半導体素材・化成品・バイオ） |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 勤務時間 | - |
| 勤務地 | 千葉県 |
| 交通 | - |
| 給与 | 年収 1000万円～1100万円 |
| 待遇・福利厚生 | 経験・スキルに応じて変動します |
| 休日・休暇 | 完全週休二日（土日） |
| 応募資格 | 【必須要件】 ・海外関係者とのコミュニケーション能力、語学力 ・開発マネジメント経験者 ・海外顧客対応経験 ・TOEIC600点以上 【歓迎要件】 ・顧客対応、技術サービス経験者 ・TOEIC730点以上 ・化学、電機、機械メーカーで、半導体材料開発や生産技術開発経験 ・半導体業界での経験 |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
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| 選考プロセス | - |
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