【株式会社ニューフレアテクノロジー】【横浜】次世代描画装置システム開発(主任候補)～世界シェア90％超～【転職支援サービス求人】（正社員）

掲載予定期間：2024/11/25(月)〜2025/2/23(日)


【横浜】次世代描画装置システム開発(主任候補)～世界シェア90％超～


【マスク描画装置世界シェア90％超／海外売上高比率80％／残業時間月平均25時間／年休125日】

■業務内容：
電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。
上流工程の研究開発、設計から事業化（製品化）に至る顧客対応まで、次世代装置の開発リーダーとして他部署と協業しながら幅広く活躍いただきます。
＜業務例＞
・現行の描画装置におけるシステム・要素開発
・次世代描画装置のシステム・要素開発（次世代描画装置のリリースに向け、お客様との折衝やマーケット調査を通し、装置の企画・検討を行いながら技術ロードマップを作成）
海外のお客様とのやり取りが多く、学会なども国際学会がほとんどであるため、業務の中では英語を用いてコミュニケーションをとっていただくシーンがございます。

■募集背景：
半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。
従来のシングルビーム描画装置に加え、微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる進展を進め、独自技術を次々に適用することによって需要にこたえていく必要があります。こうした顧客ニーズに対応する為、生産性の高い製品を開発投入していくことが必要です。

■業務の魅力：
電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。
フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。次世代装置としては、生産性、精度、、メンテナンス性、などあらゆる面での性能向上が求められます。
周辺には、経験豊富なベテラン開発者も多くおり、アドバイス適切なアドバイスを受けることが可能で、自らの開発、研究者者としての成長が期待できる職場です。

■高い技術力とエンジニア文化：
経済産業省よりグローバルニッチトップ企業100に選出されております。
技術開発に対する先行投資に力を入れており、研究開発費率22.6％を誇ります。（製造業界平均値4.81%/同社調べ）
開発を進める中で、さまざまな課題や克服しなければならない壁は出てくるはずですが、当社にはチャレンジできる環境があります。

【チーム／組織構成】