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正社員
1. CVD技術および製品開発の経験
（1）大径高均一CVD石英材料の開発
（2）高純度CVD技術の開発
（3）有機シリコンCVD技術の開発
（4）多灯CVD技術の開発
（5）半導体DUV光掩模基板材料の開発
（6）LCD光掩模石英基板材料の開発
2. VAD技術および製品開発の経験
（1）大径VAD技術の開発
（2）高均一VAD技術の開発
（3）半導体DUV光掩模基板材料の開発
（4）大径低吸収赤外線石英材料の開発
（5）露光装置レンズ材料の開発
（6）低膨張石英材料の開発
3. 開発経験または能力
（1）理論基礎：理論的な基礎を持ち、光学均一性、金属不純物含有量、吸収係数、欠陥管理など石英製造の主要プロセスパラメータとの関連を理解していること。
（2）シミュレーション分析能力：Fluentなどの流体シミュレーションソフトウェアを駆使し、堆積システムの温度場、流れ場、物質分布のシミュレーション分析が可能。
（3）テスト分析能力：石英材料の特性および光学特性のテスト分析能力を持ち、欠陥テスト分析方法を習得している。欠陥テスト結果に基づいてプロセスを調整し、製品の性能向上を図ることができる。また、光学性能テスト分析方法を理解し、テスト結果に基づいて製品の品質異常原因を診断し、改善案を提案することができること。
| 募集職種 |
技術職（電気、電子、機械） > 生産技術、製造技術、プロセス開発 > 生産技術、製造技術、プロセス開発職（その他） 技術職系（素材、食品、メディカル、バイオ） > 素材、半導体素材、化成品、バイオ関連 > 製品開発（素材・半導体素材・化成品・バイオ） |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 勤務時間 | - |
| 勤務地 | ・勤務地：中国・江蘇省・蘇州市・呉江区 ・勤務形態：常勤の現地赴任最優先、リモート勤務の顧問契約相談可能 |
| 交通 | - |
| 給与 | - |
| 待遇・福利厚生 | - |
| 休日・休暇 | 詳細は面談時にお伝えいたします |
| 応募資格 | ドイツのヘレウス社（Heraeus）、アメリカのコーニング社（Corning）、日本のオハラ・クオーツ社（Ohara）、ニコン社（Nikon）、信越化学社（Shin-Etsu）、東曹社（Tosoh）、旭硝子社（Asahi）などの石英ガラス企業で、15年以上にわたる合成石英材料のプロセス開発および製品開発の経験がある方を募集する。 採用したい人材は、以下のいずれか1～2項目の問題を解決できる方を求めています 1. 高純度合成石英の成膜技術（均一性の改善、欠陥の改善、成膜効率の向上） 2. CVDまたはVAD装置、技術プラットフォームの開発 3. 半導体用DUVフォトマスクやフォトリソグラフィー技術に用いられる純度合成石英の開発 4. 高精度な石英加工技術およびその応用技術の開発 5. 石英砂の技術開発 |
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| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
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| 選考プロセス | - |
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