【東京応化工業株式会社】【神奈川/寒川】半導体材料のプロセス開発（合成ルート構築やスケールアップ）◇賞与7.13か月分実績【転職支援サービス求人】（正社員）

掲載予定期間：2025/10/23(木)〜2026/1/21(水)


【神奈川/寒川】半導体材料のプロセス開発（合成ルート構築やスケールアップ）◇賞与7.13か月分実績


【東証プライム上場・半導体材料のトップクラスシェアメーカー／半導体製造に欠かせないフォトレジストの量産に携わる／離職率1.6％／独身寮や住宅補助あり】

■職務内容：
半導体材料（半導体前工程向けフォトレジスト）のプロセス開発をお任せします。
R&D部隊と連携しながら、化合物のルート構築・探索、パイロットスケールへのスケールアップ、受託合成メーカーとの調整業務を行って頂きます。

※ターゲットの化合物の設定、少量の合成やルート構築はR＆D部隊が担当します。

＜フォトレジストとは＞
フォトレジストは感光性材料と呼ばれ、光に反応して変化する材料で、半導体デバイスの製造に関わるフォトリソグラフィという技術に必要不可欠な化学薬品です。
当社は、半導体用フォトレジストで世界トップクラスシェア。全ての露光機に対応したフォトレジストをフルラインナップで提供しており、高い市場競争力を持っています。

■配属部署：
材料事業本部　生産技術開発部
※生産技術開発の中には、4つの課があり、（1）半導体前工程向けフォトレジスト担当、（2）高純度化学薬品・剥離液担当、（3）半導体後工程向けフォトレジスト担当、（4）設備の自動化検討に分かれております。

■福利厚生：
・独身寮あり（※入居規定あり）
・住宅補助あり（※支給規定あり）
・社員食堂あり（利用費は一部会社補助あり）

・平均勤続年数：17.1年
・離職率：1.6％（2023年度）

■当社について：
当社は、1936年、高純度化学薬品を開発・製造する化学薬品メーカーとして創業しました。1960年代後半から、半導体製造工程で重要な役割を担うフォトレジストなどの微細加工用材料を提供する化学薬品メーカーとして、国内外の半導体・エレクトロニクス産業とともに成長してきました。

変更の範囲：会社の定める業務

【チーム／組織構成】