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正社員
旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、凸版印刷から独立し、株式上場（IPO）を経て更なる事業発展を目指す、半導体用フォトマスク新会社での業務です。
半導体向けフォトマスクの電子ビームマスク描画装置を用いた技術開発及び生産技術を担っていただきます。
【職務内容】
電子ビームマスク描画装置における装置の要素開発及び装置保全業務などをお任せします。最先端の電子ビームマスク描画装置を駆使し、最高精度のフォトマスク開発の場でご活躍いただけます。
またフォトマスク技術力世界No.1を自負する弊社のエンジニア及び関係会社とのコミュニケーション・連携を通じて他分野の知見を得ながらベンダーと連携した機能開発及び自社開発へも関われます。
【技術開発】
電子ビームマスク描画装置の高精度化、装置ベンダーと連携した機能開発及び装置保全。次世代電子ビームマスク描画装置
の選定・導入・立ち上げ。海外拠点への技術展開や支援（メールやオンライン会議をはじめ、適性に応じて海外出張も可能）
【生産技術】
先端品から基幹品まで幅広い製品群に対し、他部署と連携した装置性能の最大化。
<魅力>
電子ビームマスク描画装置は、微細な半導体の回路原版となるパターンを描く装置であり、ハード的にもソフト的にも最先端の技
術が使われています。そのため、難易度の高い課題にもありますが、経験豊富なベテランも多く、自らの成長も期待できる職場で
す。
※技術開発、生産技術の両方をご対応いただきます。
| 募集職種 |
技術職（電気、電子、機械） > 生産技術、製造技術、プロセス開発 > 生産技術、製造技術、プロセス開発（半導体・電子部品関連） 建築・製造・設備・配送 > 施工管理 > 施工管理職（その他） |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 勤務時間 | - |
| 勤務地 | 埼玉県 |
| 交通 | - |
| 給与 | 年収 400万円～700万円 |
| 待遇・福利厚生 | 経験・スキルに応じて変動します |
| 休日・休暇 | 完全週休二日(土日) |
| 応募資格 | 【必須要件】 ■下記いずれかのご経験 ・精密機器装置を用いた商材の技術開発 ・生産技術 ・精密機器の装置保全 【歓迎要件】 ・リソグラフィー、レジストやエッチング工程の知識 ・微細加工の経験（半導体そのものでなくても、液晶や材料などで関連する知見など） ・半導体、MEMS、電子部品の生産技術もしくはプロセスエンジニア経験 ・品質改善活動や、プログラミングスキル・ご経験（半導体業界でなくても可） ・英語を用いた業務に抵抗が無い方 ・Linuxの端末エミュレータによる各種コマンド処理経験 |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
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| 選考プロセス | - |
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