【株式会社村田製作所】【滋賀/野洲】成膜プロセスのガス材料開発◆半導体・薄膜デバイスCVD・ALDプロセス／プライム上場【転職支援サービス求人】（正社員）

掲載予定期間：2025/12/1(月)〜2026/3/1(日)


【滋賀/野洲】成膜プロセスのガス材料開発◆半導体・薄膜デバイスCVD・ALDプロセス／プライム上場


■募集概要：
当社の半導体前工程開発において、成膜プロセス技術の最前線で活躍していただきます。特にCVD（Chemical Vapor Deposition）、ALD（Atomic Layer Deposition）技術を活用した成膜プロセスおよび材料開発を主な業務とし、新規材料やデバイス構造への対応を目指します。

■業務詳細：
・新規金属有機化合物や無機化合物の設計・合成
・CVD／ALDプロセスの設計・最適化、及び新規材料開発
・材料メーカー及び装置メーカーとの連携による共同研究・評価
・デバイス性能向上を目的とした成膜特性評価　など

■働き方：
◇出張…年数回の国内・海外出張あり
◇フレックス制度導入により個人に合わせた仕事スタイル

■当ポジションの魅力：
薄膜技術を使った新規商品を自ら考案した新規材料と成膜プロセスで作り出し、将来のムラタを支える新規商品にすることで大きなやりがいを実感することができます。

■企業の魅力・強み：
◇創業当初から世界を舞台にノウハウを蓄積し、現在世界20か国以上に展開。海外売上高比率は9割を超えます。
◇積層セラミックコンデンサ・SAWフィルタ・EMIフィルタ・ショックセンサなど、世界シェアトップクラスの製品も多数。
◇製品開発のみならず、材料開発、プロセス、回路、生産技術、分析・評価等あらゆる要素技術を内製化することで、独自性の高い技術を実現しています。

変更の範囲：会社の定める業務

【チーム／組織構成】