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正社員
■業務概要
次世代通信技術であるシリコンフォトニクスや光電融合デバイスの製造に用いられる材料開発を担当いただきます。
具体的には、光導波路やレンズなどの光デバイス構造を形成するフォトレジスト材料の開発を中心に、材料設計から評価、顧客との技術ディスカッションまで幅広く関わります。
主な業務内容
・光導波路や光学構造形成用フォトレジスト材料の設計・開発
・フォトリソグラフィプロセスを用いた材料評価
・材料の信頼性評価、物性評価、性能改善
・国内外顧客への材料紹介および評価結果のヒアリング
・顧客要望を踏まえた材料改良・新規開発
大学との共同研究や新規技術開発プロジェクトにも参画する機会があり、実際に東京科学大学との共同研究ではUVナノインプリント技術を用いたシリコンフォトニクスプロセスの開発も進めています。
■やりがい
半導体産業は、AI・データセンター・自動運転など、これからの社会インフラを支える重要分野です。
その中でもフォトレジストは半導体製造の根幹を担う材料であり、材料のわずかな改良がデバイス性能や生産性を大きく左右します。
本ポジションでは、次世代通信を支えるシリコンフォトニクスという最先端領域で、新しい材料を自ら生み出し、世界の半導体メーカーとともに技術を進化させていく経験が得られます。
自分が開発した材料が最先端デバイスの製造に使われ、社会の技術進歩に直接つながる実感を得られることが大きな魅力です。
| 募集職種 |
技術職系（素材、食品、メディカル、バイオ） > 素材、半導体素材、化成品、バイオ関連 > 製品開発（素材・半導体素材・化成品・バイオ） |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 勤務時間 | - |
| 勤務地 | ・住所：神奈川県高座郡寒川町 |
| 交通 | - |
| 給与 | 年収 550万円～900万円 |
| 待遇・福利厚生 | ・想定年収：550万円～880万円 ・月給（基本給）：29万円～44万8千円 ・賞与：年2回（6月、12月）※7.13か月分（実績） ・昇給：年1回（4月） |
| 休日・休暇 | ・完全週休2日制（休日は土日祝日）、年末年始休暇、慶弔休暇など ・年間休日日数123日 ・年間有給休暇10日～20日（下限日数は、入社直後の付与日数となります） ※年次有給休暇（入社初年度：入社日をもって3日間付与、入社4カ月目3日付与、入社7カ月目より入社月別に付与。以降年度ごとに付与し最大20日） |
| 応募資格 | ■必須条件： ・化学系大学卒業又は化学系企業研究・開発実務経験をお持ちの方 ・有機溶剤の取り扱い経験 ・化学品の調合経験 ■歓迎条件： ・半導体関連企業（材料、装置、検査機器等含む）での実務経験 ・半導体製造用材料塗布機、現像機、露光機等の使用経験 ・TOEIC(R)テスト 600点以上（海外顧客との打ち合わせあり） |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
|
| 選考プロセス | - |
| 会社名称 | 会社名非公開 |
|---|---|
| 所在地 | - |
| 事業内容 | 当社は、半導体製造に欠かせない「フォトレジスト」を中心とした機能性材料を開発する化学メーカーです。 1940年の創業以来、フォトリソグラフィ技術をコアとして微細加工分野を切り拓き、現在では半導体用フォトレジストで世界トップクラスのシェアを誇ります。 スマートフォンやパソコン、自動車、電子機器など、現代社会に欠かせない製品の多くに当社の材料技術が活用されています。 東証プライム上場企業として安定した経営基盤を持ちつつ、売上の約8割を海外市場が占めるグローバル企業でもあり、世界の半導体産業を支える存在です。 |
| 代表者 | - |
| URL | |
| 設立 | - |
| 資本金 | - |
| 売上 | - |
| 従業員数 | - |
| 平均年齢 | - |
| 主要取引先 | - |
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