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正社員
掲載予定期間：2026/4/9(木)〜2026/7/8(水)
【神奈川/寒川】半導体材料の開発（次世代EUVフォトレジスト）原材料設計や有機合成など◇プライム上場
【次世代半導体製造に不可欠な EUV向けフォトレジストの共同開発『IMプロジェクト』へアサイン／残業平均16.4h／世界トップクラスシェア製品多数】
◆職務内容：
IMプロジェクト※への配属となります。
〈業務内容〉
◆共通業務（配属初期～半年頃に担当いただく業務）
・社内評価装置を用いた基礎特性評価およびデータ解析
・半導体用レジスト材料の基礎理解
・開発テーマに関する文献調査、技術整理
・社内外関係部署との技術的な情報共有・ディスカッション
◆習熟後に担当いただく業務
化学系バックグラウンドを活かし、レジスト組成設計、原材料設計、有機合成のいずれかを主軸として開発業務に従事していただきます。
・レジスト組成・原材料の設計および性能改善検討
・感度、LWR、欠陥等のリソグラフィ特性改善に向けた開発
・海外パートナー企業（IM社等）との技術協議、共同評価の推進
・顧客向け技術説明、評価サポート
・特許出願に向けた技術整理および権利化対応
・中量産を見据えた材料設計、プロセス検討、サプライヤ連携
◆募集背景
本プロジェクトにおける開発・顧客対応体制強化のため
〈ご参画いただくプロジェクトの背景〉
本プロジェクトはIrresistible Materials社（以下、IM社）との共同開発プロジェクトです。
IM社と弊社は、次世代半導体製造に不可欠な EUV向けフォトレジストの共同開発と事業化を加速するため資本・技術提携を締結しました。IM社の革新的レジスト技術と弊社の製造体制を組み合わせ、高NA対応、解像度向上、プロセスの効率化およびコスト低減化などの業界課題を解決し、量産化と市場導入を推進していきます。
IMプロジェクトの公開情報はこちら
https://www.tok.co.jp/application/files/3217/7189/0559/260224_2.pdf
【チーム／組織構成】
【その他プロジェクト事例】
【利用するツール・ソフト等】
| 募集職種 |
技術職系（素材、食品、メディカル、バイオ） > 素材、半導体素材、化成品、バイオ関連 > 製品開発（素材・半導体素材・化成品・バイオ） |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員
＜雇用形態補足＞ 期間の定め：無 補足事項なし ＜試用期間＞ 3ヶ月 ※試用期間中、フレックスタイム適応外(通常の8:30～17:15の勤務時間となります） |
| 勤務時間 | ＜労働時間区分＞ フレックスタイム制 コアタイム：10:00～15:00 フレキシブルタイム：6:00～10:00、15:00～22:00 休憩時間：60分 時間外労働有無：有 ＜標準的な勤務時間帯＞ 8:30～17:15 |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ TTIC(TOK技術革新センター) 住所：神奈川県高座郡寒川町田端1590 勤務地最寄駅：JR東海道線／茅ヶ崎（北口）駅 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 |
| 交通 | ＜転勤＞ 当面なし ＜オンライン面接＞ 可 |
| 給与 | ＜予定年収＞ 530万円～760万円 ＜賃金形態＞ 月給制 特記事項なし ＜賃金内訳＞ 月額（基本給）：280,000円～360,000円 ＜月給＞ 280,000円～360,000円 ＜昇給有無＞ 有 ＜残業手当＞ 有 ＜給与補足＞ ※上記は諸手当・残業代除く ※ご経験に拠ります 賞与：年2回（6月、12月） 給与改定：年1回（4月） 諸手当：別途該当項目欄に記載 賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。 月給(月額)は固定手当を含めた表記です。 |
| 待遇・福利厚生 | 通勤手当、家族手当、住宅手当、寮社宅、健康保険、厚生年金保険、雇用保険、労災保険、厚生年金基金、退職金制度 ＜各手当・制度補足＞ 通勤手当：実費支給 家族手当：会社規定による 住宅手当：会社規定による 寮社宅：入寮条件あり 社会保険：各種社会保険完備、健保組合あり 厚生年金基金：補足事項なし 退職金制度：補足事項なし ＜定年＞ 65歳 ＜育休取得実績＞ 有（育休後復帰率100%） ＜教育制度・資格補助補足＞ 一例 OJT研修 昇格時の階層別教育 資格取得奨励金制度 自己学習eラーニングコンテンツ ＜その他補足＞ 各種社会保険完備、健康保険組合、企業年金基金、社員持株会、財形貯蓄、住宅援助金制度、各種クラブ活動、食費補助、退職金制度、旅行補助金 他(※HPに詳細情報あり) |
| 休日・休暇 | 【休日・休暇】 完全週休2日制（休日は土日祝日） 年間有給休暇15日～20日（下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります） 年間休日日数123日 完全週休2日制（土・日）、祝日、年末年始休暇、年次有給休暇（入社半年経過後 15日～最高20日）、慶弔休暇など 有給休暇 最大20日付与 （年に2回程度、祝日週に土曜日出勤有） |
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・以下経験を有していること ◇研究開発業務において、自ら課題を設定し、検討/実行/考察を行った経験 ◇実験データの整理/解析および技術資料の作成経験 ・化学系の大学または大学院を卒業されていること(※専攻が異なる場合でも、化学系企業での開発経験、基礎的な専門知識を有していれば考慮いたします) ・英語による技術資料の読解、メールでのコミュニケーションに抵抗がないこと ・社内外の関係者と円滑に業務を進めるためのコミュニケーション能力を有していること |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。 |
| 選考プロセス | - |
| 会社名称 | 東京応化工業株式会社 |
|---|---|
| 所在地 | 〒211-0012 神奈川県川崎市中原区中丸子150 |
| 事業内容 | ～様々な事業分野で産業界を支える微細加工技術のリーディングカンパニー※世界でもトップクラスのシェア～ ■概要：「フォトリソグラフィ」をコアテクノロジーとして最先端の微細加工技術を開拓しており、1940年にファインケミカルメーカーとして設立してから、1972年に国産初の半導体用ポジ型フォトレジストの開発に成功するなど、世界でもトップクラスのシェアを誇る、業界のリーディングカンパニーです。 ■事業内容： ・半導体・液晶ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂（フォトレジスト）・高純度化学薬品を中心とした製造 材料、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売※主要商品：フォトレジスト、高機能化学薬品 ■詳細： 1936年、医薬品の製造などに欠かせない化学品・水酸化カリウムの製造からスタート。1962年にはプリント基板用フォトレジスト（感光性有機樹脂）の製造を開始。以来、フォトリソグラフィ技術をコアテクノロジーとして、常に最先端の微細加工技術を切り拓き、豊富な技術資源を蓄積してきました。これは、ICやLSIなどの半導体、液晶ディスプレイや半導体パッケージなどの分野で利用されるほか、テレビ、携帯電話、スマートフォン、パソコン、カメラなどのディスプレイ製造分野、自動車部品、電子部品などの分野、太陽電池製造分野でも応用されています。TOKは、専門化学メーカーとして、高付加価値製品の微細加工技術に挑戦。日々の「ものづくり」によって、調和のとれた豊かな未来の創造に貢献しています。 |
| 代表者 | - |
| URL | https://www.tok.co.jp/ |
| 設立 | 年1940年10月 |
| 資本金 | 14,640百万円 |
| 売上 | 200,966百万円 |
| 従業員数 | 1,996名 |
| 平均年齢 | 43歳 |
| 主要取引先 | - |
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