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正社員
事業拡大に伴い、生産工場の前工程（150mm～300mm）の生産性向上・歩留まり改善・新デバイス向け加工プロセス開発を推進しており、前工程におけるプロセスエンジニアをお任せします。
【担当工程 ※ご経験に応じてお任する領域は決定いたします※】
・ドライエッチング
・リソグラフィ
・CVD（金属／絶縁膜、LPCVD／PECVD／HDPCVD／MOCVD／ALD 等）
・エピタキシャル CVD（GaN、Si エピ）
・WET（金属／絶縁膜、エッチング、洗浄、薬液設計）
・CMP（金属／絶縁膜の平坦化プロセス、裏面研削）
■業務詳細
以下の前工程プロセス領域のいずれか、または複数を担当いただきます。
・前工程プロセスの開発・最適化（装置/材料/条件評価 等）
・新デバイス向け加工プロセスの立ち上げ
・生産技術開発（生産性改善、歩留まり向上、コストダウン、BCM推進）
・装置導入・立ち上げ・評価・量産移管
・既存ラインの能力向上、トラブルシューティング
・関連部門（デバイス設計／製造／品質）との技術連携
■対象デバイス：
150mm～300mmラインの製品全般
（マイコン、Mixed-Signal、パワーデバイス、その他ロジック／アナログ製品）
| 募集職種 |
技術職（電気、電子、機械） > 生産技術、製造技術、プロセス開発 > 生産技術、製造技術、プロセス開発（家電・AV・コンピュータ関連） |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 勤務時間 | - |
| 勤務地 | 茨城県ひたちなか市 |
| 交通 | - |
| 給与 | 年収 500万円～800万円 |
| 待遇・福利厚生 | 経験・スキルに応じて変動します |
| 休日・休暇 | 完全週休二日(土日) |
| 応募資格 | 【必須要件】 下記領域いずれかに関する経験をお持ちの方 ・ドライエッチング ・リソグラフィ ・CVD（金属／絶縁膜、LPCVD／PECVD／HDPCVD／MOCVD／ALD 等） ・エピタキシャル CVD（GaN、Si エピ） ・WET（金属／絶縁膜、エッチング、洗浄、薬液設計） ・CMP（金属／絶縁膜の平坦化プロセス、裏面研削） |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
|
| 選考プロセス | - |
| 会社名称 | ルネサス エレクトロニクス株式会社 |
|---|---|
| 所在地 | 〒135-0061 東京都江東区豊洲3-2-24 豊洲フォレシア |
| 事業内容 | ■事業概要： 同社は2010年4月、NECエレクトロニクス社とルネサステクノロジ社（日立製作所と三菱電機の半導体部門が統合）の合併により誕生した世界最大級半導体メーカーです。車載用マイコンに強みを持ち、世界有数の半導体ソリューションプロバイダーとして業界をリードしています。 ■4つの成長分野： ルネサスは製品やソリューションを自動車、産業、インフラ、IoTの4つの成長分野へ提供することで、より安全で、健康でスマートな社会に発展させることを使命としています。マイクロコントローラ、アナログ、パワーデバイスのラインアップを総合的に強化、拡大させるなど、変革を進めています。これらの製品やソリューションは日々の暮らしに欠かせないあらゆる組込み機器に搭載されています。 ■魅力：ワールドワイドにビジネスを展開する同社は、エンジニアとして世界レベルの技術力を身に付けることができる最先端の環境が整っています。また、「働くときは働く、休む時は休む」といったメリハリのある就業・生活をモットーとし、休暇や余暇を充実させて心身をリフレッシュさせるとともに、仕事の質とより有効な時間の活用を追求した働き方を実現することができます。 |
| 代表者 | 代表取締役社長兼CEO 柴田 英利 |
| URL | https://www.renesas.com |
| 設立 | 年2002年11月 |
| 資本金 | 153,209百万円 |
| 売上 | 1,500,853百万円 |
| 従業員数 | 21,017名 |
| 平均年齢 | - |
| 主要取引先 | 【関連会社】 ルネサス エンジニアリングサービス株式会社 海外に22社 |
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