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正社員
掲載予定期間：2026/10/12(月)〜2027/1/10(日)
【神奈川/寒川】半導体材料開発（原材料のモノマー・ポリマー合成）◇シリコン含有レジスト開発を推進
【東証プライム上場／有機モノマー、ポリマー合成実務経験歓迎／2027年以降のEUVレジストビジネス獲得を目指した素材開発／賞与6か月分見込】
■業務内容
ご入社後は開発本部 リソグラフィープロセス材料研究課に配属となります。
当社独自性のあるシリコン含有レジストの開発を共に推進していただける素材開発人材を募集しています。
■ご入社後の主な担当業務
・フォトレジストの原材料となる有機もしくは有機無機ハイブリッドモノマー、ポリマーの素材設計・合成フロー検討と実合成
・合成化合物の機器分析（GPC、NMR、LC等）
・合成化合物を用いたレジスト試作サンプルの基礎物性評価
■組織構成
12名
■募集背景
リソグラフィープロセス材料研究課では2027年以降のEUVレジストビジネス獲得を目指し、TOK独自性のあるシリコン含有レジストの開発を推進しています。
現時点でシリコン含有による効果によりエッチングで優位性があることが明らかとなっており、顧客とのサンプルワークが増えています。
ビジネス獲得に向けたレジスト特性のさらなる改善に向け新たな素材を生み出し、顧客対応まで一貫した業務を遂行しており、今後の展開を鑑みても人財不足の状況であるため、素材開発人材を2名募集いたします。
■当社の魅力
・85年以上の歴史がある大手化学メーカー。
・穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数17.1年です。
・自己資本比率70％超と安定経営を実現。
・平均年収865万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。
■当社について
半導体デバイスの製造工程では、フォトリソグラフィという技術を用いてシリコンウエハ上に微細な溝を刻み、そこに回路を形成します。当社はこの工程で使用する様々なフォトレジストの開発・製造・販売を事業の柱として成長してきた企業です。
変更の範囲：会社の定める業務
【チーム／組織構成】
【その他プロジェクト事例】
【利用するツール・ソフト等】
| 募集職種 |
技術職系（素材、食品、メディカル、バイオ） > 素材、半導体素材、化成品、バイオ関連 > 製品開発（素材・半導体素材・化成品・バイオ） |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員
＜雇用形態補足＞ 期間の定め：無 ＜試用期間＞ 3ヶ月 ※試用期間中、フレックスタイム適用外（通常の8:30～17:15の勤務時間となります） |
| 勤務時間 | ＜労働時間区分＞ フレックスタイム制 コアタイム：10:00～15:00 フレキシブルタイム：6:00～10:00、15:00～22:00 休憩時間：60分 時間外労働有無：有 ＜標準的な勤務時間帯＞ 8:30～17:15 |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ TTIC(TOK技術革新センター) 住所：神奈川県高座郡寒川町田端1590 勤務地最寄駅：JR東海道線／茅ヶ崎（北口）駅 受動喫煙対策：屋内全面禁煙 変更の範囲：会社の定める事業所 |
| 交通 | ＜転勤＞ 当面なし |
| 給与 | ＜予定年収＞ 570万円～970万円 ＜賃金形態＞ 月給制 ＜賃金内訳＞ 月額（基本給）：320,000円～380,000円 ＜月給＞ 320,000円～380,000円 ＜昇給有無＞ 有 ＜残業手当＞ 有 ＜給与補足＞ ※ご経験により決定 ■賞与：年2回（計6カ月分見込） 賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。 月給(月額)は固定手当を含めた表記です。 |
| 待遇・福利厚生 | 通勤手当、家族手当、住宅手当、寮社宅、厚生年金基金、退職金制度 ＜社会保険＞ 健康保険 有、厚生年金 有、雇用保険 有、労災保険 有 各種社会保険完備、健保組合あり ＜各手当・制度補足＞ 通勤手当：実費支給 家族手当：会社規定による 住宅手当：会社規定による 寮社宅：独身寮（入寮条件あり） 厚生年金基金：補足事項なし 退職金制度：補足事項なし ＜定年＞ 65歳 ＜育休取得実績＞ 有（育休後復帰率100%） ＜教育制度・資格補助補足＞ 一例：OJT研修、昇格時の階層別教育、資格取得奨励金制度、自己学習eラーニングコンテンツ ＜その他補足＞ ■健康保険組合 ■企業年金基金 ■社員持株会 ■財形貯蓄 ■住宅援助金制度 ■各種クラブ活動 ■食費補助 ■旅行補助金 他 |
| 休日・休暇 | 【休日・休暇】 完全週休2日制（休日は土日祝日） 年間有給休暇15日～20日（下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります） 年間休日日数123日 ■有給休暇：入社半年経過時点15日 最高付与日数20日 ■その他：年に2回程度、祝日週に土曜日出勤有 |
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件 ・有機モノマー、ポリマー合成実務経験を有すること ※有機無機ハイブリッド材料を扱ったことがあれば尚良し ■歓迎条件 ・メーカーでの業務経験を有すること ・語学力を有すること（特に英語） |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。 |
| 選考プロセス | - |
| 会社名称 | 東京応化工業株式会社 |
|---|---|
| 所在地 | 〒211-0012 神奈川県川崎市中原区中丸子150 |
| 事業内容 | ～様々な事業分野で産業界を支える微細加工技術のリーディングカンパニー※世界でもトップクラスのシェア～ ■概要：「フォトリソグラフィ」をコアテクノロジーとして最先端の微細加工技術を開拓しており、1940年にファインケミカルメーカーとして設立してから、1972年に国産初の半導体用ポジ型フォトレジストの開発に成功するなど、世界でもトップクラスのシェアを誇る、業界のリーディングカンパニーです。 ■事業内容： ・半導体・液晶ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂（フォトレジスト）・高純度化学薬品を中心とした製造 材料、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売※主要商品：フォトレジスト、高機能化学薬品 ■詳細： 1936年、医薬品の製造などに欠かせない化学品・水酸化カリウムの製造からスタート。1962年にはプリント基板用フォトレジスト（感光性有機樹脂）の製造を開始。以来、フォトリソグラフィ技術をコアテクノロジーとして、常に最先端の微細加工技術を切り拓き、豊富な技術資源を蓄積してきました。これは、ICやLSIなどの半導体、液晶ディスプレイや半導体パッケージなどの分野で利用されるほか、テレビ、携帯電話、スマートフォン、パソコン、カメラなどのディスプレイ製造分野、自動車部品、電子部品などの分野、太陽電池製造分野でも応用されています。TOKは、専門化学メーカーとして、高付加価値製品の微細加工技術に挑戦。日々の「ものづくり」によって、調和のとれた豊かな未来の創造に貢献しています。 |
| 代表者 | - |
| URL | https://www.tok.co.jp/ |
| 設立 | 年1940年10月 |
| 資本金 | 14,640百万円 |
| 売上 | 200,966百万円 |
| 従業員数 | 1,996名 |
| 平均年齢 | 43歳 |
| 主要取引先 | - |
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