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正社員
【パソナキャリア経由での入社実績あり】
2nm世代およびそれ以降の最先端FEOL(Front End of Line)プロセス開発を担当いただきます。
本ポジションでは、半導体製造装置メーカーや材料サプライヤーなどの外部パートナー、および以下の社内部門と連携しながら、技術開発を主導していただきます。
■デバイスインテグレーション(Device Integration)
■プロセスインテグレーション(Process Integration)
■TEGレイアウト設計(TEG Layout Design)
■生産技術(Manufacturing Engineering)
Cutting edge 2nm and beyond FEOL process development.
You will lead technology developments with collaboration between external tool equipment / material suppliers and internal stakeholders, including Device Integration, Process Integration, TEG Layout Design, and Manufacturing Engineering groups.
Applicants with strong expertise in any of these areas are welcome to apply.
【Rapidusについて】
Rapidus株式会社は2022年に設立された、日本主導による世界トップレベルの先端ロジック半導体ファウンドリーの実現を目指す企業です。革新的なビジョンのもと、最先端ロジック半導体の研究・開発・設計・製造を推進し、世界の半導体産業の変革に挑戦しています。
【About Rapidus】
Rapidus Corporation, founded in 2022, is Japan-led initiative to build a world-class advanced logic semiconductor foundry. With a bold vision to accelerate innovation, we ar…
| 募集職種 |
技術職(電気、電子、機械) > 生産技術、製造技術、プロセス開発 > 生産技術、製造技術、プロセス開発(家電・AV・コンピュータ関連) |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 勤務時間 | - |
| 勤務地 | 北海道 |
| 交通 | - |
| 給与 | 年収 400万円~1200万円 |
| 待遇・福利厚生 | 経験・スキルに応じて変動します |
| 休日・休暇 | 完全週休二日(土日) |
| 応募資格 | 【必須要件】 ■以下の半導体プロセス分野のうち、少なくとも1つにおいて実証された専門知識および経験を有すること ・ウェハ洗浄(Wafer Cleaning) ・CMP(Chemical Mechanical Planarization:化学機械研磨) ・イオン注入(Ion Implantation) ・熱処理プロセス(Thermal Processing) ・成膜プロセス(Deposition) ■Proven expertise in at least one of the following semiconductor processes: Wafer Cleaning, CMP(Chemical Mechanical Planarization), Ion Implantation, Thermal Processing, or Deposition. ■Japanese JLPT:N2 level, or an equivalent level of language proficiency |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
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| 選考プロセス | - |
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