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| 仕事内容 | 【職務概要】 同社の次世代電子ビームマスク描画装置における、 マスク描画用ステージやマスク搬送機構に関する要素技術開発および機械設計業務をお任せします。 【職務詳細】 ・XYZステージ制御系システム、 およびマスク搬送制御系システムのメカシステム設計（40％） ・設計承認に向けた仕様検討、メカ機構部の要素検討、試作、評価（30％） ・部品の生産中止（EOL）に関する対応や性能改善設計（15％） |
|---|---|
| 応募資格 | 【必須】※下記いずれか ・アクチュエータやロボット等のメカトロニクスのシステム開発経験（3年以上） ・機構部（駆動部やロボットのアーム等）の仕様検討を含む設計経験（3年以上） 【尚可】 ・3D CAD（SolidWorks等）を用いた設計、シミュレーション（強度、固有値、... |
| 給与 | 年収 550万円～750万円 |
| 勤務地 | 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1 JR根岸線「新杉田」駅徒歩5分 勤務地変更の範囲:海外現地法人を含む、同社各拠点 |
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| 会社名 | 株式会社ニューフレアテクノロジー |
|---|---|
| 所在地 | - |
| 紹介文 | - |
| 業種 | - |
| 設立 | 2002年8月1日 |
| 代表者 | - |
| 資本金 | 64億8,600万円 |
| 売上 | - |
| 従業員数 | - |
| URL | |
| 事業内容 | 【事業内容】■電子ビームマスク描画装置■エピタキシャル成長装置■マスク検査装置の開発・製造・販売 【会社の特徴】2002年の創業以来、半導体製品の製造に不可欠な最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・提供を通じて 世界的な半導体産業の発展に貢献しており、経済産業省の『グローバルニッチトップ企業100選』に選定されています。 同社は半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスクに高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーです。 また、フォトマスクの仕上がりを高精度に確認するマスク検査装置や、EV化などで市場拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を 展開し、世界中のお客様から高い評価を受けています。次世代技術であるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術と検査技術を融合させた 先端検査装置も実用化段階を迎えています。 |
| 主要取引先 | - |
| 主要取引銀行 | - |
