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NEW 正社員 イーキャリアFA

【株式会社ニューフレアテクノロジー】【神奈川】機構設計(半導体製造装置) ※転勤なし(正社員)

株式会社ニューフレアテクノロジー 求人ID:41073260
求人の特徴
  • フレックス勤務
  • 土日祝休み
  • 年間休日120日以上
  • 転勤なし・勤務地限定
  • 語学力を活かす
  • 社宅・家賃補助あり

仕事内容

【職務概要】
同社の次世代電子ビームマスク描画装置における、
マスク描画用ステージやマスク搬送機構に関する要素技術開発および機械設計業務をお任せします。

【職務詳細】
・XYZステージ制御系システム、
およびマスク搬送制御系システムのメカシステム設計(40%)
・設計承認に向けた仕様検討、メカ機構部の要素検討、試作、評価(30%)
・部品の生産中止(EOL)に関する対応や性能改善設計(15%)
・装置の安全規格対応設計業務(10%)
・保守装置でのメカ系トラブルに対する技術サポート(5%)

【仕事の進め方・環境】
・仕様検討から部品選定、試作、設計承認、製造、立上げ調整までの
一連のプロセスに携わります。
・メカトロニクスグループにて、電気設計やソフトウェア設計の担当者と
密に連携してプロジェクトを推進します。
・使用ツール:SolidWorks、AutoCAD、ANSYS、MATLAB/Simulink


【業務内容変更の範囲】
会社の定める業務

募集要項

募集職種 技術職(電気、電子、機械) > 機械・機構設計、金型設計 > 機械・機構設計(家電・AV・コンピュータ関連)
技術職(電気、電子、機械) > 機械・機構設計、金型設計 > 機械・機構設計(工作機械・ロボット・重電関連)
雇用形態 正社員
勤務時間 -
勤務地 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1
JR根岸線「新杉田」駅徒歩5分
勤務地変更の範囲:海外現地法人を含む、同社各拠点
交通 -
給与 年収 550万円~750万円
待遇・福利厚生 ■年収:570万~960万円
 月給制:月額269000円
 賞与:年2回(7、12月)
 昇給:年1回(4月)

■雇用形態:正社員
 契約期間:無期
 試用期間:有(6ヶ月)

■福利厚生:
独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)、住宅費補助、家賃補助、目的型福祉制度(教育・健康・懇親等に年間最大35万円補助)、選択型福祉制度「カフェポイント」(年間5万円分)、退職金制度、企業年金、財形制度、共済会制度、保養所、健康診断

■勤務時間:8:45~17:30 フレックスタイム制あり
 休憩時間:60分

■喫煙情報:屋内禁煙
休日・休暇 【年間休日125日以上】完全週休2日制(土・日)、祝日、年末年始休暇、夏季休暇、有給休暇(初年度1~19日、最大24日)、慶弔休暇、特別休暇、リフレッシュ休暇

応募方法

応募資格 【必須】※下記いずれか
・アクチュエータやロボット等のメカトロニクスのシステム開発経験(3年以上)
・機構部(駆動部やロボットのアーム等)の仕様検討を含む設計経験(3年以上)

【尚可】
・3D CAD(SolidWorks等)を用いた設計、シミュレーション(強度、固有値、温度)の実務経験
・真空装置の設計経験(表面処理等)
・2D製作図面の作成経験
・SolidWorks PDMを利用した設計業務経験
・英語での技術的なコミュニケーションスキル

<キャリアステップ>
入社後はOJTを通じて技術をキ>ッチアップし、半年後からEOL対応やトラブル対応など幅広く業務を経験します。入社3年後を目途に、描画装置のメカトロニクス部分におけるメカ系開発リーダーとしての活躍を期待しています。
応募方法 このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
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非公開となっている求人の社名や、そのほか応募に関する詳細につきまして、転職EXおよび情報提供元であるイーキャリアFAではわかりかねますので、求人応募完了後に人材紹介会社様にご確認ください。
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選考プロセス -

企業情報

会社名称 株式会社ニューフレアテクノロジー
所在地 -
事業内容 【事業内容】■電子ビームマスク描画装置■エピタキシャル成長装置■マスク検査装置の開発・製造・販売

【会社の特徴】2002年の創業以来、半導体製品の製造に不可欠な最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・提供を通じて
世界的な半導体産業の発展に貢献しており、経済産業省の『グローバルニッチトップ企業100選』に選定されています。

同社は半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスクに高精度な回路パターンを形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーです。

また、フォトマスクの仕上がりを高精度に確認するマスク検査装置や、EV化などで市場拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を
展開し、世界中のお客様から高い評価を受けています。次世代技術であるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術と検査技術を融合させた
先端検査装置も実用化段階を迎えています。
代表者 -
URL
設立 2002年8月1日
資本金 64億8,600万円
売上 -
従業員数 -
平均年齢 -
主要取引先 -
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