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| 仕事内容 | 【職務概要】 同社の主力製品である電子ビームマスク描画装置に関して、設計開発の品質マネジメントシステム(QMS)の改善に関わる業務をご担当いただきます。 【職務詳細】 1. 設計品質を高めるQMSの改善【業務比重：約60％】 設計開発部門の各グループからアサインされた設計メンバーとチームを組み、設計開発プロセスにおける本質的な課題を抽出します。課題に対するプロセスの改善は単なるルールの押し付けで |
|---|---|
| 応募資格 | 【必須】（1）に加えて（2）または（3）に該当する方 （1）設計開発の実務経験（機械、電気、ソフトウェア などいずれの分野でも可） （2）ISO9001の活用経験（監査対応、監査是正対応、設計プロセス改善 などいずれか） （3）これまでの設計経験を「設計の仕組み改善」に活か... |
| 給与 | 年収 550万円～750万円 |
| 勤務地 | 神奈川県横浜市西区みなとみらい4-6-2 みなとみらい線「みなとみらい」駅徒歩2分 勤務地変更の範囲:会社の定める業務（海外現地法人を含む、同社各拠点） |
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| 会社名 | 株式会社ニューフレアテクノロジー |
|---|---|
| 所在地 | - |
| 紹介文 | - |
| 業種 | - |
| 設立 | 2002年8月1日 |
| 代表者 | - |
| 資本金 | 64億8,600万円 |
| 売上 | - |
| 従業員数 | - |
| URL | |
| 事業内容 | 【事業内容】■電子ビームマスク描画装置■エピタキシャル成長装置■マスク検査装置の開発・製造・販売 【会社の特徴】2002年の創業以来、半導体製品の製造に不可欠な最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・提供を通じて 世界的な半導体産業の発展に貢献しており、経済産業省の『グローバルニッチトップ企業100選』に選定されています。 同社は半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスクに高精度な回路パターンを形成する 電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーです。 また、フォトマスクの仕上がりを高精度に確認するマスク検査装置や、EV化などで市場拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を 展開し、世界中のお客様から高い評価を受けています。次世代技術であるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術と検査技術を融合させた 先端検査装置も実用化段階を迎えています。 |
| 主要取引先 | - |
| 主要取引銀行 | - |
