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NEW 正社員 イーキャリアFA

【株式会社ニューフレアテクノロジー】【神奈川】品質管理(品質マネジメントシステム改善担当) ※フレックスタイム制あり(正社員)

株式会社ニューフレアテクノロジー 求人ID:41523746
求人の特徴
  • フレックス勤務
  • 土日祝休み
  • 年間休日120日以上
  • 社宅・家賃補助あり
  • 育児支援制度

仕事内容

【職務概要】
同社の主力製品である電子ビームマスク描画装置に関して、設計開発の品質マネジメントシステム(QMS)の改善に関わる業務をご担当いただきます。

【職務詳細】
1. 設計品質を高めるQMSの改善【業務比重:約60%】
設計開発部門の各グループからアサインされた設計メンバーとチームを組み、設計開発プロセスにおける本質的な課題を抽出します。課題に対するプロセスの改善は単なるルールの押し付けではなく、設計者が高品質な設計に集中できる実効性の高い改善計画の立案・実行を目指します。設計段階での品質作り込み(フロントローディング)を強力に推進し、開発の手戻り防止と装置全体の信頼性向上を実現する、最もやりがいのある中核業務です。

2. 設計品質の妥当性を検証するQMS監査の統括【業務比重:約30%】
ISO9001等の内部監査および外部審査に向け、開発・設計部門の受審準備・取りまとめを主轄します。監査を通じて「設計品質が適切に管理・担保されているか」を客観的に検証し、指摘事項に対する是正処置を設計部門と一体となって推進し、開発プロセス全体の継続的改善サイクル(PDCA)により設計品質の向上に貢献します。

3. 品質マネジメントに関連する統括業務【業務比重:約10%】
設計開発部門の品質維持向上に関連する全般業務を担当いただきます。(部門の品質目標立案と実績とりまとめ、BOM(Bill of Material:部品表)の構築 等)

【業務内容変更の範囲】
同社業務全般

募集要項

募集職種 技術職(電気、電子、機械) > 品質管理、製品評価、品質保証、生産管理 > 品質管理・テスト・評価(電気・電子・機械)
雇用形態 正社員
勤務時間 -
勤務地 神奈川県横浜市西区みなとみらい4-6-2
みなとみらい線「みなとみらい」駅徒歩2分

勤務地変更の範囲:会社の定める業務(海外現地法人を含む、同社各拠点)
交通 -
給与 年収 550万円~750万円
待遇・福利厚生 ■年収:570万~960万円
 月給制:月額269000円
 賞与:年2回(7、12月)
 昇給:年1回(4月) ※昇格に伴う昇給は10月

■雇用形態:正社員
 契約期間:無期
 試用期間:有(6ヶ月(条件・待遇に変動なし))

■福利厚生:
退職金制度(確定拠出年金)、企業年金、財形制度、借上げ社宅(適用条件有)、目的型福祉制度、選択型福祉制度「カフェポイント」、共済会制度、保養所、健康診断

■勤務時間:標準的な労働時間:8時45分~17時30分
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
 休憩時間:60分

■喫煙情報:屋内原則禁煙(喫煙室あり)
休日・休暇 【年間休日125日】完全週休2日制(土・日)、祝日、年末年始休暇、夏季休暇、有給休暇、慶弔休暇、特別休暇、
ステップアップ休暇、育児休業制度、介護休業制度、配偶者出産休暇制度

応募方法

応募資格 【必須】(1)に加えて(2)または(3)に該当する方
(1)設計開発の実務経験(機械、電気、ソフトウェア などいずれの分野でも可)
(2)ISO9001の活用経験(監査対応、監査是正対応、設計プロセス改善 などいずれか)
(3)これまでの設計経験を「設計の仕組み改善」に活かしたいという意欲をお持ちの方

【尚可】
・ISO9001に基づくQMSの構築、またはプロセス改善の推進経験
・未然防止手法(FMEA、DRBFM等)や再発防止手法(なぜなぜ分析、FTA等)の知見・実践経験
・多部門との折衝・調整業務の経験
・既存のルールやプロセスに対し、課題感を持って主体的に改善に取り組む意欲のある方
応募方法 このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
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選考プロセス -

企業情報

会社名称 株式会社ニューフレアテクノロジー
所在地 -
事業内容 【事業内容】■電子ビームマスク描画装置■エピタキシャル成長装置■マスク検査装置の開発・製造・販売

【会社の特徴】2002年の創業以来、半導体製品の製造に不可欠な最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・提供を通じて
世界的な半導体産業の発展に貢献しており、経済産業省の『グローバルニッチトップ企業100選』に選定されています。

同社は半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスクに高精度な回路パターンを形成する
電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーです。

また、フォトマスクの仕上がりを高精度に確認するマスク検査装置や、EV化などで市場拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を
展開し、世界中のお客様から高い評価を受けています。次世代技術であるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術と検査技術を融合させた
先端検査装置も実用化段階を迎えています。
代表者 -
URL
設立 2002年8月1日
資本金 64億8,600万円
売上 -
従業員数 -
平均年齢 -
主要取引先 -
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A「求人情報だけではよくわからない」「自分で大丈夫なのか」という不安もあるかと思いますが、
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