正社員
下記のような研究開発業務を、スキルや適性に応じてご担当いただきます。
■先端マスク、特にEUVマスク向けの材料、プロセス、後工程装置の研究開発
・シミュレーションを用いた次世代フォトマスク材料設計/開発/特許化。
・次世代フォトマスクブランクス/レジスト/導電膜等の開発/特許化。
・次世代フォトマスク用装置の選定/導入/プロセス立上げ/技術移管。
・フォトマスク及びフォトマスク用材料の計測/分析。
・統計手法及び機械学習を用いたプロセス開発/最適化/技術移管。
■ナノインプリント向けの材料、プロセス、装置の研究開発
・ナノインプリントの材料設計/開発/特許化。
・ナノインプリント用装置の選定/導入/プロセス立上げ/技術移管。
【期待する役割】
研究開発にとどまらず、他部門と連携し製造現場へのプロセスの落とし込みまで携わっていただきます。海外顧客、装置や材料メーカーとのやり取り、海外他拠点の技術員との連携を推進しています。
【魅力】
旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、TOPPANホールディングス株式会社から独立しIPOを目指しております。
そのため、現在の変革期にあたり新たな経験をグローバル目線で積むことができます。
| 募集職種 |
技術職（電気、電子、機械） > 研究、特許、テクニカルマーケティングほか > 基礎研究（電気・電子・機械） |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 勤務時間 | - |
| 勤務地 | 埼玉県新座市野火止7-21-33 |
| 交通 | - |
| 給与 | 年収 400万円～700万円 |
| 待遇・福利厚生 | 経験・スキルに応じて変動します |
| 休日・休暇 | 完全週休二日(土日) |
| 応募資格 | 【必須要件】 ■研究開発業務経験者 ■海外と係りのある業務に抵抗が無い方。 【歓迎要件】 ・英語力 |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
|
| 選考プロセス | - |
| 会社名称 | テクセンドフォトマスク株式会社 |
|---|---|
| 所在地 | - |
| 事業内容 | 【事業内容】半導体用フォトマスクの製造及び販売 【会社の特徴】半導体の地産地消の動きが広まる中、同社はグローバルな生産体制を構築している半導体用フォトマスクメーカーとして、 半導体用フォトマスクの外販市場におけるトップクラスのマーケットシェアを築いています。 そうした背景から同社は、半導体用フォトマスク市場拡大の波に乗る絶好のポジションにつけており、 更なる成長及び事業価値向上に向けこれまでにない好機が訪れています。 またこれまで以上に迅速かつ柔軟に研究開発投資及び設備投資を実行し、 外部環境の変化に対応しながら顧客のニーズを満たしていくことが求められているため、 分社化を行いIPOを目標かつ重要な通過点に設定し、成長していきます。 |
| 代表者 | - |
| URL | - |
| 設立 | 2021年12月 |
| 資本金 | ー |
| 売上 | - |
| 従業員数 | - |
| 平均年齢 | - |
| 主要取引先 | - |
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