【東京応化工業株式会社】【神奈川/寒川】半導体材料の原料開発（半導体製造における最先端分野・EUVレジスト）◇プライム上場【転職支援サービス求人】（正社員）

掲載予定期間：2025/6/26(木)〜2025/9/24(水)


【神奈川/寒川】半導体材料の原料開発（半導体製造における最先端分野・EUVレジスト）◇プライム上場


【低分子合成や高分子重合の経験活かす／5GデバイスやAIに搭載される半導体製造に使う微細加工／独身寮や住宅補助など充実した福利厚生】

■職務内容：
半導体製造に使うレジスト材料（EUV向け）の開発をお任せします。
今回は、材料開発ポジションにて素材の合成をお任せする予定ですが、ご経験次第では、製品開発ポジションに配属になる可能性があります。

＜具体的な業務内容＞
【材料開発】
・レジスト特性改善につながる新規素材の設計・合成・スケールアップ
・レジスト用ポリマーの重合
・大学・研究機関との連携

【製品開発】
・レジスト開発
（原料の選択・配合設計、顧客対応、レジスト製造など）
・顧客や、他部署、他部門と議論し、顧客要望の実施、および課題解決

＜EUVレジストについて＞
・当社のコア技術であるフォトリソグラフィは、「光線」がレンズを通過してフォトレジストに化学変化を起こすことで「半導体回路のパターン」を形成します。この光線にはこれまで、ICチップに超微細な線幅を描くことができる短波長の光源が使用されてきましたが、技術革新が進む一方で「微細加工の限界」が懸念されるようになり、その中で新たに創出されたのがEUV（極端紫外線）を光源に使用する技術です。
・EUV露光による半導体（7nm）の一部は、既に5G対応デバイスに使用されていますが、AIなどコンピュータ関連技術のさらなる発達には半導体の微細加工化が欠かせません。EUVレジストは、半導体の微細加工の中でも最先端の技術に関わる材料になります。

■配属部署：
先端材料開発一部

■福利厚生：
・独身寮あり（※入居規定あり）
・住宅補助あり（※支給規定あり）
・社員食堂あり（利用費は一部会社補助あり）

・平均勤続年数：17.5年（2023年度）
・離職率：1.6％（2023年度）

■当社について：
当社は、1936年、高純度化学薬品を開発・製造する化学薬品メーカーとして設立しました。1960年代後半から、半導体製造工程で重要な役割を担うフォトレジストなどの微細加工用材料を提供する化学薬品メーカーとして、国内外の半導体・エレクトロニクス産業とともに成長してきました。

変更の範囲：会社の定める業務

【チーム／組織構成】