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正社員
【パソナキャリア経由での入社実績あり】
【期待する役割】
次世代通信インフラを支える高周波GaN HEMTデバイスの中核技術であるエピタキシャル結晶成長において、
研究開発から量産展開までを一貫して担っていただくポジションです。
単なる研究に留まらず、実用化・量産化を見据えた技術確立と生産現場への展開を通じて、
世界トップクラスの化合物半導体デバイス競争力の強化に貢献いただくことを期待しています。
【業務内容】
高周波GaN HEMT向けエピタキシャルウェハに関する技術開発および量産対応を担当していただきます。
■高周波GaN HEMT用エピタキシャルウェハの構造設計
■GaN HEMT向けエピタキシャル成長技術の研究・開発
■成膜条件の最適化、特性評価、課題抽出および改善検討
■生産技術開発および量産ラインへの技術移管・展開
■新規プロセス装置の選定、導入、立ち上げ対応
■関係部門（デバイス・製造・品質等）との連携による量産安定化推進
※研究テーマを「成果」で終わらせず、量産技術として定着させる経験が積める環境です。
【配属部署】
電子デバイス事業部プロセス開発部
| 募集職種 |
技術職（電気、電子、機械） > 生産技術、製造技術、プロセス開発 > 生産技術、製造技術、プロセス開発（家電・AV・コンピュータ関連） |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 勤務時間 | - |
| 勤務地 | 神奈川県横浜市栄区金井町 |
| 交通 | - |
| 給与 | 年収 450万円～800万円 |
| 待遇・福利厚生 | 経験・スキルに応じて変動します |
| 休日・休暇 | 週休二日(土日) |
| 応募資格 | 【必須要件】 以下いずれかのご経験をお持ちの方 ■半導体ウェハのエピタキシャル成長に関する研究・開発経験 ■半導体プロセス装置の選定・導入・立ち上げ経験 ■半導体プロセス技術（成膜、エッチング等）に関する実務経験 加えて、以下を満たす方 ■英語による基礎的なコミュニケーション能力（TOEIC500点程度または同等レベル） 【歓迎要件】 ■高周波向け化合物半導体エピタキシャルウェハの知識・経験 ■GaN HEMT用エピタキシャル成長技術の開発経験 ■エピウェハの生産技術開発および量産ライン展開の経験 ■研究成果を製品・事業に結びつけた経験をお持ちの方 |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
|
| 選考プロセス | - |
| 会社名称 | 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 |
|---|---|
| 所在地 | 〒244-0845 神奈川県横浜市栄区金井町1 |
| 事業内容 | ■事業概要： 化合物半導体を使用した電子デバイス及び光デバイス並びにこれらの応用製品の開発・製造 ■事業詳細： 住友電工デバイス・イノベーション（略称：SEDI）は、住友電気工業株式会社と富士通株式会社の折半出資会社のユーディナデバイス株式会社として、2004年4月に設立され、2009年4月の住友電気工業株式会社による完全子会社化を経て、同社の光伝送デバイス事業を統合再編し、同年8月発足されました。 「最小の消費電力で、最大のデータ伝送を可能にする化合物半導体デバイスの提供による、デジタル社会およびカーボンニュートラルの実現。」をSEDI Visionに掲げ、化合物半導体を材料とするデバイス及びその応用製品の開発・製造を行っています。具体的には、｢光通信網に用いられる光素子などのデバイスや光トランシーバなどのモジュールに関わる事業｣と｢移動体通信、衛星通信、車載レーダなどに用いられるHEMTやMMICなどの無線通信デバイスに関わる事業｣を展開しており、それぞれの事業において、グローバルマーケットで1、2位を争うシェアを占めています。 ■特徴： 化合物半導体には、ガリウム砒素、インジウムリン、窒化ガリウムなどの素材が使用されており、シリコン等と比べて、高速動作・受発光機能・熱や放射線に強いなどの特性があり、大容量かつ高速の情報処理が可能です。消費電力も少なく、小型化も容易なため、情報通信関連分野は勿論、自動車関連や民生エレクトロニクスなど、より幅広い産業分野での利用が進んでいます。 ■事業所： 本社／横浜市栄区金井町1 山梨事業所／山梨県中巨摩郡昭和町紙漉阿原1000 |
| 代表者 | - |
| URL | http://www.sedi.co.jp/ |
| 設立 | 年1984年5月 |
| 資本金 | 15,000百万円 |
| 売上 | - |
| 従業員数 | 1,575名 |
| 平均年齢 | 44.8歳 |
| 主要取引先 | - |
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