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正社員
■業務概要
半導体製造に使用されるフォトレジスト材料の研究開発を担当いただきます。
新規材料の設計から合成、評価、スケールアップまで幅広く携わり、より高性能なレジストの開発を目指します。
■業務詳細
・レジスト性能向上につながる新規化合物の設計および合成
・レジスト用ポリマーの重合および材料設計
・レジストのフォーミュレーション開発および性能評価
・材料のスケールアップおよび製造プロセスの検討
・顧客要求を踏まえた材料改良・技術課題の解決
・大学や研究機関との共同研究推進
顧客・製造部門・評価部門など社内外と連携しながら、研究成果を実際の製品へとつなげていく役割を担います。
場合によっては海外顧客対応や研究機関との連携など、グローバルなフィールドで活躍する機会もあります。
■魅力・やりがい
この仕事の魅力は、自身が開発した材料が世界中の半導体製造に使われる可能性がある点です。
フォトレジストの性能向上は、半導体の微細化や性能向上に直結します。
つまり、研究開発の成果がスマートフォンやAI、IoTなど最先端技術の進化を支えることにつながります。
また、研究テーマの検討から材料設計、評価、スケールアップまで幅広く携わることができるため、化学研究者としての専門性を深めながらキャリアを築くことができます。
グローバル市場で評価される材料開発に携われる点も大きな魅力です。
| 募集職種 |
技術職系（素材、食品、メディカル、バイオ） > 素材、半導体素材、化成品、バイオ関連 > 製品開発（素材・半導体素材・化成品・バイオ） |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 勤務時間 | - |
| 勤務地 | ・住所：神奈川県高座郡寒川町 |
| 交通 | - |
| 給与 | 年収 550万円～650万円 |
| 待遇・福利厚生 | ・想定年収：530万円～670万円 ・月給（基本給）：28万円～33万円 ・賞与：年2回（6月、12月）※7.13か月分（実績） ・昇給：年1回（4月） |
| 休日・休暇 | ・完全週休2日制（休日は土日祝日）、年末年始休暇、慶弔休暇など ・年間休日日数123日 ・年間有給休暇10日～20日（下限日数は、入社直後の付与日数となります） ※年次有給休暇（入社初年度：入社日をもって3日間付与、入社4カ月目3日付与、入社7カ月目より入社月別に付与。以降年度ごとに付与し最大20日） |
| 応募資格 | ＜必須＞ ・化学系の大学または大学院を卒業している、 もしくは化学系企業での開発経験を有すること ・低分子化合物の合成経験、もしくは高分子重合の経験 ＜歓迎＞ ・高分子・低分子いずれにおいても量産規模での合成経験 ・半導体材料・電子材料に使用される化学薬品の取り扱い経験 ・語学力（特に英語） ・量子科学計算、データサイエンス、機械学習などの知識・経験 ・各種分析の経験（例：HPLC、GPC、NMRなど） ・部門・社内外との連携が円滑に行えるコミュニケーション力 ・英語力：中級 |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
|
| 選考プロセス | - |
| 会社名称 | 会社名非公開 |
|---|---|
| 所在地 | - |
| 事業内容 | 当社は、半導体製造に欠かせない「フォトレジスト」を中心とした機能性材料を開発する化学メーカーです。 1940年の創業以来、フォトリソグラフィ技術をコアとして微細加工分野を切り拓き、現在では半導体用フォトレジストで世界トップクラスのシェアを誇ります。 スマートフォンやパソコン、自動車、電子機器など、現代社会に欠かせない製品の多くに当社の材料技術が活用されています。 東証プライム上場企業として安定した経営基盤を持ちつつ、売上の約8割を海外市場が占めるグローバル企業でもあり、世界の半導体産業を支える存在です。 |
| 代表者 | - |
| URL | |
| 設立 | - |
| 資本金 | - |
| 売上 | - |
| 従業員数 | - |
| 平均年齢 | - |
| 主要取引先 | - |
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