【三菱マテリアルテクノ株式会社】【新潟／長岡】半導体装置（CMP等）研磨プロセス設計・開発◆三菱マテリアルG／年休121日◆【転職支援サービス求人】（正社員）

掲載予定期間：2026/6/8(月)〜2026/9/6(日)


【新潟／長岡】半導体装置（CMP等）研磨プロセス設計・開発◆三菱マテリアルG／年休121日◆


◆三菱マテリアルGで安定性◎／完全週休2日制・年間休日121日◆

■業務内容：
当社長岡製作所にて、半導体関連装置の研磨プロセスにおける設計・開発業務をお任せします。

■業務詳細：
◇研磨プロセス（CMPなど）の設計開発
◇研磨条件（圧力、回転数、速度、スラリー、パッドなど）の検討及び最適化
◇研磨結果の評価・解析及び課題抽出、改善提案、装置仕様・機構設計へのフィードバック

■ポジションのやりがい：
◇設計部門と製造部門が密に連携し、お客様のニーズや工場に合わせた仕様に機械をカスタマイズし、最適な1台を提供できます。
◇お客様の生産性向上に直結するご提案と技術の提供により、産業の発展に貢献することが可能です。

■組織構成：
設計・開発グループ/開発・半導体チーム…15名
※20代～50代まで幅広い年齢の社員が活躍しています。

■期待すること：
研磨プロセスに関する技術的な中核メンバーとして参画いただき、研磨条件の設計・評価・改善をリードし、得られた知見を装置の開発に展開し、チーム全体の技術力向上と装置競争力強化に貢献する役割を担っていただくことを期待します。

■長岡製作所の特徴：
100年以上の歴史で培ったアイデアと技術力、そして細やかなサポートで、お客様が新たな素材・製品を生み出す瞬間を「機械・装置の設計と製造」で支えています。設計から製作、組立、検査、据付、メンテナンスまで一貫した対応ができるワンストップ体制が特徴です。

変更の範囲：会社の定める業務

【チーム／組織構成】
【その他製品・プロジェクト事例】
【利用するツール・ソフト等】