【株式会社レゾナック】【山形（千葉）】＼UIターン支援あり／半導体材料（SiC）のプロセス開発／新拠点でプロセス設計へ挑戦【転職支援サービス求人】（正社員）

掲載予定期間：2026/6/29(月)〜2026/9/27(日)


【山形（千葉）】＼UIターン支援あり／半導体材料（SiC）のプロセス開発／新拠点でプロセス設計へ挑戦


【SiC／エピウェハー／プロセス設計／新規ライン立上げ／装置導入／歩留まり改善／データ解析】
既存改善に留まらず「プロセスを創る側」へ。材料×装置×データを横断し、条件設計から量産適用まで担い、成果を数値で証明できる環境です。

■採用背景
SiC事業拡大に伴い、2026年に山形生産・技術センターを新設。生産能力増強と立上げを担う製造技術者を募集します。

■業務内容
・SiCエピウェハー工程のプロセス設計、条件最適化、量産条件確立
・エピ成長プロセスの改善設計および品質向上施策立案
・評価／検査プロセス設計と工程内品質の作り込み
・目標特性達成に向けた部材選定・条件設計
・新規装置（エピ／検査／洗浄）の選定、導入、立上げ
・量産データ解析による歩留まり改善、異常要因特定、標準化
製造・品質・装置ベンダーと連携し、仮説→実験設計→検証→標準化を一貫推進。工程意図をデータで裏付け、量産品質へ落とし込みます。

■業務の魅力
・設計条件が即量産に反映、改善効果をデータで実感
・新規ライン立上げに関与し、構想～量産化を経験
・QC手法や要因解析を高度工程で発揮可能

■働く環境
・製造技術エンジニア多数在籍、OJTで習得
・入社後は千葉県市原技術センターでOJT（3か月～1年）後、山形新拠点へ配属

■働き方・福利厚生
・引っ越し台全額補助・家賃補助あり
・フレックス制（コアタイムなし）
・残業月平均20時間程度
・完全週休2日制

■キャリアパス
工程担当からプロセス責任者や装置導入リードへ。将来は新規ライン構想や顧客対応など、事業インパクトの大きい役割へ拡張可能。

■こんな方におすすめ
・改善中心から、プロセス設計・立上げへ広げたい
・工程最適化や歩留まり改善の強みを次世代分野で発揮したい
・データ解析を軸に本質的な原因特定と再現性ある改善をしたい
・半導体領域へキャリアシフトし、専門性を高めたい

■企業魅力
「化学の力で社会を変える」を掲げ、SiC材料を中核事業として強化。
新拠点開設と増産投資を推進し、売上拡大を見込む成長フェーズ。単結晶基板～エピウェハーまで一貫開発し低炭素社会に貢献。技術者の成果が事業成長に直結する環境です。

変更の範囲：会社ならびに出向先の定める全ての業務（配置転換を含む人事異動を命じることがある）

【チーム／組織構成】
【その他製品・プロジェクト事例】
【利用するツール・ソフト等】