NEW
正社員
【職務概要】
同社の顧客先にて、半導体製造装置の一つであるCMP装置の電気設計業務をお任せいたします。
【職務詳細】
■製品：CMP装置
■範囲：電気設計、回路設計、試験、企画など
■開発：シーケンサー、PLC、2DCAD(AutoCAD)、3DCAD(iCAD)
※CADの使用経験は必須ではございません。
【具体的には】
・エレキ系開発設計（要素開発、装置プラットフォーム開発、オプション開発）
・電気試験、EMCテスト
・企画、開発案件の提案
・デジタル、アナログ回路、制御回路などの回路設計
【同社の特徴】
取引先は、日立製作所、東芝、NEC、富士通、NTTデータ、パナソニックなど大手企業が多く、経営基盤が安定しています。自社研修施設：A-LABOでは充実した施設内で研修受講やスキルアップが可能です。
【業務内容変更の範囲】
同社業務全般
| 募集職種 |
技術職（電気、電子、機械） > 生産技術、製造技術、プロセス開発 > 生産技術、製造技術、プロセス開発（家電・AV・コンピュータ関連） |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 勤務時間 | - |
| 勤務地 | 神奈川県藤沢市 ※プロジェクト先により異なる ※プロジェクト先により異なる 勤務地変更の範囲:取引先(案件先)の勤務地により異なる |
| 交通 | - |
| 給与 | 年収 400万円～650万円 |
| 待遇・福利厚生 | - |
| 休日・休暇 | 【年間休日120日以上】、完全週休2日制、夏季休暇、年末年始休暇、慶弔休暇、特別休暇、年次有給休暇 |
| 応募資格 | 【必須】 ・産業用機械や装置の電気設計経験 ・PLCやシーケンサーの経験 【尚可】 ・半導体製造装置の電気設計経験 ・3DCAD（AutoCAD(2D), iCAD(3D)）を用いた業務経験 ★CMP装置とは... C...Chemical（化学） M...Mechanical（機械） P...Polishing （研磨） 半導体の材料であるウェハーの表面を平らに磨く技術をCMPといいます。研磨剤の入った薬品（化学）で機械的にウェハーの表面を磨く機能を持った装置がCMP装置です。表面を平坦化することによりウェハーに多くの配線をすることができます。 |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
|
| 選考プロセス | - |
| 会社名称 | セントラルエンジニアリング株式会社 |
|---|---|
| 所在地 | - |
| 事業内容 | 自動車、精密機器、航空機、宇宙機器等の設計開発 原子力発電、石油化学等各種プラントの設計及び施工管理 土木、建築、建築設備の設計及び施工管理 電気電子関連機器の設計 各種通信システム機器の開発、設計、製造 自社製品の開発、設計、製造、販売 ＯＥＭ製品の設計、製造 など |
| 代表者 | - |
| URL | http://www.central-eng.co.jp/ |
| 設立 | 1962年 |
| 資本金 | - |
| 売上 | 80億円 |
| 従業員数 | 1000人以上 |
| 平均年齢 | - |
| 主要取引先 | - |
転職したいけど、求人を探す時間がない人は、かんたん登録で、お仕事探しがらくらくスムーズになる
転職EXに会員登録しよう!
転職EXの会員登録をすると、以下の便利な機能がすぐにご利用になれます。ぜひご利用ください。
新規会員登録 (無料)気になるリストに保存できる件数は20件までです。
20件以上保存するにはログインが必要です。
ログイン後は、今までログイン中気になるリストに入っていた案件も見ることができます。
