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正社員
【パソナキャリア経由での入社実績あり】
2nm世代およびそれ以降の先端ロジック半導体技術に向けた新規材料の評価・選定から、それらを活用したプロセス開発、さらには既存材料を用いたプロセス最適化まで、幅広い半導体材料開発業務を担当していただきます。
The candidate will be responsible for a broad range of semiconductor materials development activities, including the evaluation and selection of novel materials for advanced logic technologies at the 2nm and beyond, the process development of incorporating novel materials, and the process optimization utilizing existing materials.
【Rapidusについて】
Rapidus株式会社は2022年に設立された、日本主導による世界トップレベルの先端ロジック半導体ファウンドリーの実現を目指す企業です。革新的なビジョンのもと、最先端ロジック半導体の研究・開発・設計・製造を推進し、世界の半導体産業の変革に挑戦しています。
【About Rapidus】
Rapidus Corporation, founded in 2022, is Japan-led initiative to build a world-class advanced logic semiconductor foundry. With a bold vision to accelerate innovation, we are pioneering cutting-edge logic semiconductor research, development, design, and manufacturing to transform the global semiconductor industry.
【働き方】
■フルフレックス
| 募集職種 |
技術職(電気、電子、機械) > 生産技術、製造技術、プロセス開発 > 生産技術、製造技術、プロセス開発(家電・AV・コンピュータ関連) |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員 |
| 勤務時間 | - |
| 勤務地 | 北海道 |
| 交通 | - |
| 給与 | 年収 400万円~1200万円 |
| 待遇・福利厚生 | 経験・スキルに応じて変動します |
| 休日・休暇 | 完全週休二日(土日) |
| 応募資格 | 【必須要件】 ■以下のいずれかを含む半導体関連技術分野における5年以上の実務経験 ・材料評価(Materials Evaluation) ・プロセス開発(Process Development) ・プロセス最適化(Process Optimization) ■Candidates with at least five years of experience in semiconductor technologies, including materials evaluation, process development, or process optimization. ■Japanese JLPTN2 level, or an equivalent level of language proficiency 【歓迎要件】 ・半導体材料関連プロセスの経験 リソグラフィ(Lithography)/ シリコンウェハ洗浄(Silicon Wafer Cleaning)/ CMP(Chemical Mechanical Planarization:化学機械研磨)/ ドライエッチング(Dry Etching) / 薄膜成膜(Thin-Film Deposition) Candidates with experience in materials-related semiconductor processes, including lithography, silicon wafer cleaning, CMP(Chemical Mechanical Planarization), dry etching, and thin-film deposition. Applicants with strong expertise in any of these areas are welcome to apply. |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
|
| 選考プロセス | - |
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