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NEW 正社員 イーキャリアFA

【株式会社ニューフレアテクノロジー】【神奈川】フィールドエンジニア(半導体製造装置/定期メンテナ ※年間休日120日以上(正社員)

株式会社ニューフレアテクノロジー 求人ID:41168588
求人の特徴
  • 土日祝休み
  • 年間休日120日以上
  • 語学力を活かす
  • 社宅・家賃補助あり
  • 育児支援制度

仕事内容

【職務概要】
国内外の顧客工場へ出張し、先端技術の結集した電子ビームマスク描画装置の保守・メンテナンス(主に予防保全)を担当します。

【職務詳細】
・電子ビームマスク描画装置の客先納入後の保守業務
・装置の定期点検(1年~2年周期で20日間程度実施)、
部品交換および装置トラブルシューティング
・定期点検におけるユニットや部品の交換、オーバーホール等のメカ系作業
・作業後の動作チェック(各種データ取り、測定データの解析、作業の合否判定)
・作業レポートおよび日報の作成、現場および社内への報告
・装置アップグレード改造や装置移設業務
・次回定期点検の交換部品の確認、部品の発送指示、作業スケジュールの作成

【入社後の流れ】
・入社後3~4か月:横浜本社にてハウスマシーンを使用した実地研修と座学を通じて装置技術、メンテナンス技能を習得
・その後:先輩エンジニアに帯同し、OJTで定期点検業務への理解を深化
・約2年:作業リーダー(3~4名のチーム作業)としての活躍を期待

■出張:1回2週間程度の出張が1~2か月に1~2回の頻度であります。(海外顧客の構成比が高く、海外出張が多い状況です。)

【業務内容変更の範囲】
会社の定める業務

募集要項

募集職種 技術職(電気、電子、機械) > 品質管理、製品評価、品質保証、生産管理 > 品質管理・テスト・評価(電気・電子・機械)
技術職(電気、電子、機械) > サービスエンジニア、サポートエンジニア > サービスエンジニア、サポートエンジニア(工作機械・ロボット・重電関連)
雇用形態 正社員
勤務時間 -
勤務地 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1
JR根岸線「新杉田」駅徒歩5分
※社内規定により利用路線によって通勤の降車駅が異なります。
勤務地変更の範囲:海外現地法人を含む、同社各拠点への変更の可能性あり
交通 -
給与 年収 550万円~750万円
待遇・福利厚生 ■年収:570万~810万円
 月給制:月額269000円
 賞与:年2回(7月・12月)
 昇給:年1回(4月)

■雇用形態:正社員
 契約期間:無期
 試用期間:有(6ヶ月)

■福利厚生:
退職金制度(確定拠出年金)、企業年金、財形制度、東芝グループ保険制度、借上げ社宅(規定あり)、住宅費・家賃補助、「NFT-HEC」制度(年間最大30万円補助)、選択型福祉制度「カフェポイント」(年間5万円分付与)、団体長期障害所得補償保険(GLTD)、保養所、次世代育成手当、教育研修制度

■勤務時間:8時45分~17時30分
 休憩時間:60分

■喫煙情報:敷地内禁煙(喫煙場所あり)
休日・休暇 【年間休日125日】完全週休2日制(土・日)、祝日、年末年始休暇、夏季休暇、有給休暇、慶弔休暇、特別休暇、
ステップアップ休暇、育児休業制度、介護休業制度、配偶者出産休暇制度

応募方法

応募資格 【必須】
・産業機械、装置、生産設備などの機械エンジニア経験

【尚可】
・半導体製造装置のメカ系作業経験
・コミュニケーションスキル、プレゼンテーションスキルが高いこと
・英検3級以上ないし、TOEIC 500点以上
・普通自動車免許(海外出張時に国際免許を取得して現地で運転する可能性あり)

【ミッション】
起きた事象に対していかに迅速に対応できるか、問題解決のためにいかに周囲を巻き込んで改善に向けた行動がとれるか、いかに未然にトラブルを防いで、顧客の生産を突発的に止めないようにするか、求められています。定期点検においては、決められた期間通りに完了させ、日程通りに、装置を生産へリリースすることが重要です。
応募方法 このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。
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選考プロセス -

企業情報

会社名称 株式会社ニューフレアテクノロジー
所在地 -
事業内容 【事業内容】■電子ビームマスク描画装置■エピタキシャル成長装置■マスク検査装置の開発・製造・販売

【会社の特徴】2002年の創業以来、半導体製品の製造に不可欠な最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・提供を通じて
世界的な半導体産業の発展に貢献しており、経済産業省の『グローバルニッチトップ企業100選』に選定されています。

同社は半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスクに高精度な回路パターンを形成する
電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーです。

また、フォトマスクの仕上がりを高精度に確認するマスク検査装置や、EV化などで市場拡大が期待されるパワー半導体向けのSiCエピタキシャル成長装置を
展開し、世界中のお客様から高い評価を受けています。次世代技術であるマルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術と検査技術を融合させた
先端検査装置も実用化段階を迎えています。
代表者 -
URL
設立 2002年8月1日
資本金 64億8,600万円
売上 -
従業員数 -
平均年齢 -
主要取引先 -
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