【株式会社ニューフレアテクノロジー】【横浜】ハードシステム開発・設計（次世代のリーダー候補）／最先端半導体装置メーカー【転職支援サービス求人】（正社員）

掲載予定期間：2024/7/11(木)〜2024/10/9(水)


【横浜】ハードシステム開発・設計（次世代のリーダー候補）／最先端半導体装置メーカー


電子ビームマスク描画装置内のデータパス・描画制御部において、マスクパターンデータの変換やデジタル高速演算処理、リアルタイムにデータ補正を行うデジタル回路の開発を担当頂きます。

■業務内容
当社の主力製品である電子ビームマスク描画装置内のデータパス・描画制御部において、マスクパターンデータを制御部向けのデータに変換するデジタル高速演算処理や、リアルタイムにデータ補正を行うデジタル回路の開発を担当して頂きます。
【変更の範囲：会社の定める業務】

■具体的な業務内容
・ハードウェア仕様検討（各モジュールのIF仕様を含む）
・開発キット／カスタム基板等を用いての部品／回路評価
・設計（外注）
・製造（外注）
・評価方法検討
・評価ツール作成
※装置のシリーズ毎に分かれてご担当いただきます。
※ご経験に合わせて業務をお任せしますが、基本的には回路の簡単な評価業務から取り組んで頂く予定です。

■業務を通じて感じるやりがい
◎制御回路システムでの試験
小規模なレイアウトデータの空描画が流れた（疎通テストがOK）時や、マークスキャン（ビーム調整評価）が正常にできた時。
1、2ヶ月規模のデバック（修正→評価の繰り返し）が必要な時もあり、長期スパンで携わった業務が完了した時の達成感もひとしおです。
◎描画装置システム全体での試験
大規模なレイアウトデータの空/実描画が流れた（システム統合試験がOK）時や、数ヶ月規模のデバック（修正→評価の繰り返し）が完了した時。

■配属組織について
・組織構成：6名
※半導体業界未経験の方も在籍しております。

■電子ビームマスク描画装置の魅力
スマートフォンやタブレットPCなど、私たちの生活になくてはならない通信機器の機能化、小型・軽量化に影響を与えている半導体集積回路（LSI）の大量生産に大きく貢献してる装置です。こうした更なる高密度化、微細化が求められているLSIにおいて、その微細化し複雑になる回路パターンの描画を可能にするのが、当社の電子ビームマスク描画装置であり、半導体そのものの技術革新にとってなくてはならない存在となっております。現在市場の9割ものシェアを誇り、更なる装置の技術進化に向けて研究・開発を続けており、未だ世にない最先端の技術に触れたい方にはぴったりの職場となります。

変更の範囲：本文参照

【チーム／組織構成】
【その他製品・プロジェクト事例】
【利用するツール・ソフト等】