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正社員
掲載予定期間:2025/6/9(月)〜2025/9/7(日)
【神奈川/横浜市】プロセス開発◆業界トップ級メーカー/大手企業と取引あり/経験を活かして活躍可能◎
~半導体真空皮膜領域で最先端技術を持ちトップクラスシェアを誇るニッチトップ級メーカー~
■職務の目的:
・事業部の新規製品の開発ロードマップ達成のために、プロセス開発及び装置ハード構想を担当。
・特許や論文を調査し、マーケティングの方向性と装置・プロセス開発内容の検討。
・顧客技術者との折衝
・プロセス開発の効率化
■期待する成果・KPI:
◇成果
・新製品の完遂
・新製品の方向性決定
・作業改善
◇KPI
・スケジュール遵守率
・新規装置売上の割合向上
■主な職務内容:
・新製品・新機能の技術検討および構想立案
・特許や論文を調査・報告
・社内レビュー会議、技術共有ミーティングへの参加・資料作成
・装置オペレーション
・測定・データ分析
・測定担当者への技術支援
・各種カンファレンスでの情報収集及び顧客技術者との情報交換
・チームメンバーや成膜GRへの技術支援
■出張について:
鶴岡工場への出張頻度が年3~4回(2~4週間程度)あります。
(新規装置立ち上げのための実験を行うため実験を工場で行うため。)
※長期間の場合は、個人の予定で2週に1回程度にはなりますが、週末は帰ってくるなどフレキシブルに運用しています。
■当社の魅力:
◇当社は真空成膜装置というニッチな商品にて、業界での地位を確立しております。真空を利用した薄膜の利用分野は大変広く、様々な提案ができます。
◇また当社の特徴は、他社と比較をし意思決定の「スピード」が速く、経営陣との距離も近いという点です。年齢、性別、国籍に関係なく実力主義で評価をされ、役割をお任せをします。そういった社風から、「自身の力を試したい」「意思決定スピードがもっと速い会社で働きたい」という想いを持ったかたの転職が多いです。
変更の範囲:会社の定める業務
【チーム/組織構成】
【その他製品・プロジェクト事例】
【利用するツール・ソフト等】
募集職種 |
技術職(電気、電子、機械) > 生産技術、製造技術、プロセス開発 > 生産技術、製造技術、プロセス開発(半導体・電子部品関連) |
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雇用形態 | 正社員
<雇用形態補足> 高度プロフェッショナル制度対象者 期間の定め:無 <試用期間> 3ヶ月 |
勤務時間 | <標準的な勤務時間帯> 8:30~17:30 時間外労働有無:無 <時短勤務> 相談可 |
勤務地 | <勤務地詳細> 本社 住所:横浜市西区みなとみらい4-3-5 勤務地最寄駅:JR、京浜急行線/横浜駅 受動喫煙対策:屋内喫煙可能場所あり 変更の範囲:会社の定める事業所 |
交通 | <勤務地補足> 鶴岡工場への出張あり <転勤> 当面なし <在宅勤務・リモートワーク> 相談可 |
給与 | <予定年収> 800万円~1,000万円 <賃金形態> 月給制 <賃金内訳> 月額(基本給):500,000円~660,000円 <月給> 500,000円~660,000円 <昇給有無> 有 <残業手当> 無 <給与補足> ■昇給:年1回 ■賞与:年2回 |
待遇・福利厚生 | 通勤手当、家族手当、健康保険、厚生年金保険、雇用保険、労災保険、退職金制度 <各手当・制度補足> 通勤手当:会社規定に基づき支給 家族手当:条件有 社会保険:社会保険完備 退職金制度:会社規定に基づき支給 <定年> 60歳 定年再雇用制度あり <副業> 可 <育休取得実績> 有(育休後復帰率100%) <教育制度・資格補助補足> ■OJT <その他補足> ■家賃補助制度(条件有) ■出産・育児支援制度(全従業員利用可) ■社員食堂・食事補助(全従業員利用可) ■育休有・産休有 ■時短勤務あり(相談窓口あり) ■コンプライアンス窓口あり |
休日・休暇 | 【休日・休暇】 完全週休2日制(休日は会社カレンダーによる) 年間有給休暇3日~15日(下限日数は、入社直後の付与日数となります) 年間休日日数122日 有休付与数:入社月による。翌年17日、最大25日 |
応募資格 | <最終学歴>大学院、大学、高等専門学校卒以上 <応募資格/応募条件> ■必須条件: ・半導体製造装置メーカのプロセス・装置開発経験者、もしくは、デバイスメーカのプロセス開発・装置導入経験者(目安5年以上) ・英語力(顧客・現法などとの会議で使用) <語学力> 必要条件:英語中級 |
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応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。 |
選考プロセス | - |
会社名称 | 株式会社シンクロン |
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所在地 | 〒220-8680 神奈川県横浜市西区みなとみらい4-3-5 |
事業内容 | ■事業内容: 真空薄膜形成装置ならびに各種キーコンポーネンツの研究、開発、設計、製造、販売、技術サービスを提供しています。 ■製品: ロードロック式スパッタ成膜装置、高速(IAD)真空薄膜形成装置、連続式真空薄膜形成装置、精密真空薄膜形成装置等 ※真空薄膜形成装置はデジタルカメラ、携帯電話、タブレット端末等様々な製品を生産する企業の工場に配置され、製造ラインの中で真空薄膜形成工程を担う装置です。 ■特徴(TOPICS): 次代のスタンダードを創造するために、同社は光学薄膜ソリューションの新発想に挑み続けています。 例えば、多層な光学薄膜を設計する上でより高い屈折率が必要となりTiO2の成膜が多くの技術者が待ち望んでいましたが、同社では独自の技術開発(ロードロック式スパッタ成膜装置)によりそれが実現しています。 (1)高い屈折率が光学ロスを少なく得られる。(2)バッチ間の再現性が高い。(3)波長シフトが起こりにくく安定した性能を持つ。というような特徴がございます。 ■組織風土: 同社は、年齢、性別、国籍に関わらずご活躍いただける社風です。「他社に負けない決定スピードの速さ」や、「自身の意見を言い合える風土」は同社の特徴であり、魅力です。中途入社社員が多く、ダイバーシティーが進んでいます。 |
代表者 | - |
URL | http://www.shincron.co.jp/ |
設立 | 年1951年5月 |
資本金 | 73百万円 |
売上 | - |
従業員数 | 323名 |
平均年齢 | - |
主要取引先 | - |
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