正社員
掲載予定期間：2025/6/19(木)〜2025/9/17(水)
【横浜】建屋及びファシリティ設備管理（課長相当職）◇年収1000万円～／年休125日／土日祝休み◇
＜技術力が高く業界内で地位を確立する安定企業＞
■募集背景：
当社では、半導体プロセスの研究開発を行うクリーンルーム設備の拡張を進めています。
半導体の研究開発では、各種化学薬品及び特殊ガスを取り扱うことより、用役供給設備/一般空調設備の稼働維持においても高い専門知識を有する設備管理者が必要であるため、人員募集いたします。
■業務内容：
設備管理のグループ（メンバー2名）を束ねていただきます。
・一般設備の保守保全管理
・クリーンルーム設備の維持管理
・化学薬品の取扱い及び管理
・設備導入の管理監督業務
・公的機関への届出業務
■当社の魅力と特徴：
・半導体製造過程の中で、高い品質で均一形成が出来る「成膜プロセス技術」を誇り、縦型拡散CVD装置分野の世界シェアは50％超と高く、業界をリードする技術集団です。
・「縦型成膜装置」を開発し、省スペース化と生産性アップに貢献。半導体分野は電子機器の多様化によるメモリ市場の拡大や、AI・自動運転などIoT社会の浸透加速による幅広いデバイス市場の活性化により需要が拡大し、次々と新しい技術や製造方法が生まれています。
変更の範囲：会社の定める業務
【チーム／組織構成】
【その他プロジェクト事例】
| 募集職種 |
建築・製造・設備・配送 > プランニング、測量、設計、積算 > プランニング、測量、設計、積算職（その他） 建築・製造・設備・配送 > 警備、清掃、設備管理関連 > 警備・清掃・設備管理関連職（その他） |
|---|---|
| 雇用形態 | 正社員
＜雇用形態補足＞ 管理監督者 期間の定め：無 ＜試用期間＞ 3ヶ月 試用期間中も待遇に変動はありません。 |
| 勤務時間 | ＜標準的な勤務時間帯＞ 9:00～17:30 時間外労働有無：無 |
| 勤務地 | ＜勤務地詳細＞ 横浜事業所 住所：神奈川県横浜市神奈川区恵比須町1番地 澁澤倉庫恵比須町倉庫2号館4階 勤務地最寄駅：JR線／新子安駅 受動喫煙対策：屋内喫煙可能場所あり 変更の範囲：本社、会社のすべての事業所 |
| 交通 | ＜転勤＞ 有 ＜在宅勤務・リモートワーク＞ 相談可 ＜オンライン面接＞ 可 |
| 給与 | ＜予定年収＞ 1,000万円～1,300万円 ＜賃金形態＞ 月給制 ＜賃金内訳＞ 月額（基本給）：454,500円～590,000円 ＜月給＞ 454,500円～590,000円 ＜昇給有無＞ 有 ＜残業手当＞ 無 ＜給与補足＞ ■昇給：年1回（4月） ■賞与：年2回（6月・12月） 賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。 月給(月額)は固定手当を含めた表記です。 |
| 待遇・福利厚生 | 通勤手当、家族手当、住宅手当、寮社宅、健康保険、厚生年金保険、雇用保険、労災保険、厚生年金基金、退職金制度 ＜各手当・制度補足＞ 通勤手当：会社規定により支給 家族手当：会社規定により支給 住宅手当：適用条件あり 寮社宅：独身寮（富山事業所のみ）／適用条件あり 社会保険：補足事項なし 厚生年金基金：企業年金基金あり 退職金制度：補足事項なし ＜定年＞ 60歳 再雇用65歳まで ＜育休取得実績＞ 有 ＜教育制度・資格補助補足＞ グローバル人財育成を目的とした「語学研修」、効果的なプレゼンのポイントを掴み実践に強くなるための「プレゼン研修」、自社キャリアアドバイザーによる自身のキャリア構築をめざす「キャリア開発研修」など ＜その他補足＞ ■企業型確定拠出年金 ■財形貯蓄 ■住宅手当/独身寮制度（適用条件有） ■団体扱い保険 ■総合福利厚生サービス ■服装自由 ■社員食堂(富山のみ)、食事補助(首都圏勤務者のみ) |
| 休日・休暇 | 【休日・休暇】 完全週休2日制（休日は土日祝日） 年間有給休暇2日～24日（下限日数は、入社直後の付与日数となります） 年間休日日数125日 GW、夏季休暇、年末年始休暇・リフレッシュ休暇・慶弔休暇・年次有給休暇：24日※入社初年度は、入社月による(4月入社の場合24日、3月入社の場合2日付与) |
| 応募資格 | ＜最終学歴＞大学院、大学、高等専門学校卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ ■必須条件： ・ビルメンテナンス管理業務及び同等の実績を有すること ・管理職としてのマネジメント経験3年程度以上 ■歓迎条件： ・クリーンルーム設備の管理運営経験を有すること ・化学薬品、特殊ガスの取扱い知識を有すること ・空調、電気、高圧ガス、排水処理設備の導入、運用経験を有すること ・各種公的資格の所有 (高圧ガス保安関係、危険物取扱、設備士、電気主任技術者、電気工事士、公害防止管理者、等) |
|---|---|
| 応募方法 | このページ内の「応募」ボタンよりご応募ください。 |
| 選考プロセス | - |
| 会社名称 | 株式会社KOKUSAI ELECTRIC |
|---|---|
| 所在地 | 〒101-0045 東京都千代田区神田鍛冶町3-4 oak神田鍛冶町5F |
| 事業内容 | ■事業内容： 同社は半導体製造装置の研究開発・設計・製造・販売・メンテナンスを一貫して行っています。 連結従業員数2,472名(2024年3月31日現在) ■当社グループの主要事業 (1)成膜プロセス装置 半導体製造プロセスにおいて、成膜工程は、ウェーハ上の回路形成において重要な役割を担うことから、各装置に高度な技術と信頼性の高い製品提供が不可欠となりますが、当社グループの主力製品であるバッチ成膜装置は、世界中の半導体デバイスメーカーから高く評価され、世界トップクラスのシェアを有しています。半導体デバイスの三次元化と微細化によって、近年、その構造はより深く、狭く、複雑になり、成膜が必要な表面積も拡大するため、難易度の高い高品質成膜が要求されるようになりました。この課題を解決するのが、私たちのバッチALD技術です。高品質な膜をステップカバレッジ良く、均一に成膜することを可能にするためにALD※技術と、一度に複数枚のウェーハへの成膜を可能とするバッチ成膜技術を組み合わせたバッチALD技術は、高難易度成膜と高生産性を両立するための論理的なソリューションです。 ※当社グループでは、複数のガスをサイクリックに供給する工程を伴い、原子層レベルで成膜する手法を「ALD」と呼んでいます。 (2)トリートメント(膜質改善)プロセス装置 トリートメント(膜質改善)プロセス装置は、成膜後にプラズマや加熱により膜中の不純物の除去や粒子を安定させることで膜質の改善をすることを目的とした装置です。半導体デバイスの微細化、複雑化に伴い低温環境での成膜需要が高まる中で、低温環境でも膜質を維持するソリューションとして近年需要が拡大しています。 (3)サービス 当社グループが製造・販売する半導体製造装置のアフターサービスを行っています。 半導体生産工場では、半導体製造装置が年中無休で稼働しています。そのため、耐久性の高い製品はもちろん、製品のメンテナンスや修理・部品販売、装置の移設・改造等のアフターサービスを提供しています。また、中古装置の販売等も行っているほか、お客様に当社グループが製造した半導体製造装置を、最も効率良く、正しくご使用いただくため、装置のメンテナンスや操作方法をレクチャーするトレーニングセンタも設置しています。 |
| 代表者 | - |
| URL | https://www.kokusai-electric.com/ |
| 設立 | 年2017年2月 |
| 資本金 | 11,262百万円 |
| 売上 | 180,838百万円 |
| 従業員数 | 1,125名 |
| 平均年齢 | 44.3歳 |
| 主要取引先 | - |
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